Sababaraha konsumén naroskeun ngeunaan target sputtering silikon. Ayeuna, kolega ti Jurusan Téknologi RSM bakal nganalisis target sputtering silikon pikeun anjeun.
Target sputtering silikon dijieun ku sputtering logam tina ingot silikon. Target bisa dijieun ku rupa prosés jeung métode, kaasup electroplating, sputtering jeung déposisi uap. embodiments pikaresep salajengna nyadiakeun beberesih tambahan sarta prosés etching pikeun ngahontal kaayaan permukaan nu dipikahoyong. Target nu dihasilkeun téh kacida reflective, kalawan roughness kirang ti 500 angstroms jeung speed ngaduruk rélatif gancang. Film disiapkeun ku udagan silikon ngabogaan jumlah partikel low.
Target sputtering silikon dipaké pikeun neundeun film ipis dina bahan dumasar silikon. Aranjeunna umumna dianggo dina tampilan, semikonduktor, optik, komunikasi optik sareng aplikasi palapis kaca. Éta ogé cocog pikeun etching komponén high-tech. N-tipe silikon sputtering target bisa dipaké pikeun tujuan béda. Ieu lumaku pikeun loba widang, kaasup éléktronika, sél surya, semikonduktor jeung mintonkeun.
Target sputtering silikon nyaéta aksésori sputtering dipaké pikeun depositing bahan dina beungeut cai. Biasana, éta diwangun ku atom silikon. Prosés sputtering merlukeun jumlah tepat bahan, nu bisa jadi tangtangan hébat. Ngagunakeun parabot sputtering idéal nyaéta hiji-hijina cara pikeun nyieun komponén dumasar silikon. Perhatos yén target sputtering silikon henteu dianggo dina prosés sputtering.
waktos pos: Oct-24-2022