Borongan MoNi Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Custom Made Produsén jeung Supplier

Molybdenum nikel

MoNi Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun Diulas Gambar

Katerangan pondok:

Kategori	Paduan Sputtering Target
Rumus Kimia	MoNi
Komposisi	Molybdenum nikel
Kasucian	99,9%, 99,95%, 99,99%
Wangun	Pelat, Sasaran Kolom, katoda busur, Dijieun khusus
Prosés Produksi	PM
Ukuran sadia	L≤2000mm, W≤200mm

Kirim surélék ka kami

Rincian produk

Tag produk

Molybdenum nikel Sputtering Target ieu fabricated ku vakum lebur na PM, sarta mibanda kaunggulan tina alloy Molybdenum, Molybdenum jeung nikel. Cai mibanda kabiasaan lalawanan korosi unggulan utamana pikeun asam hidroklorat, sarta résistansi alus kana solusi asam sulfat konsentrasi sedeng. Éta ogé tiasa dianggo dina lingkungan asam asétat sareng fosfat. Urang bisa nyadiakeun Molybdenum nikel Sputtering Target jeung purity tinggi, ukuran sisikian rupa jeung kinerja alus.

Bahan Khusus Beunghar specializes dina Pabrik Sputtering Target sarta bisa ngahasilkeun Molybdenum Nikel Sputtering Bahan nurutkeun spésifikasi Konsumén. Kanggo inpo nu leuwih lengkep, mangga ngahubungan kami.

saméméhna: MoNb Sputtering Target High Purity Ipis Film PVD palapis Adat Dijieun

Teras: MoCu Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun