MoNb Sputtering Target High Purity Ipis Film PVD palapis Adat Dijieun

Target Molybdenum Niobium disiapkeun ku nyampur bubuk Molybdenum sareng Niobium dituturkeun ku pemadatan dugi ka dénsitas pinuh. Bahan anu dipadatkan sacara opsional disinter teras dibentuk kana bentuk anu dipikahoyong.
Target sputtering Molybdenum Niobium boga titik lebur tinggi, kakuatan, jeung kateguhan dina suhu luhur. Ogé némbongkeun panas alus teuing jeung konduktivitas listrik kalawan koefisien low ékspansi termal. Nambahkeun Niobium kana Molybdenum ningkatkeun piksel tampilan kristal cair sahenteuna tilu kali.

Target sputtering Molybdenum Niobium mangrupakeun bahan kritis pikeun Datar Panel Display (FPD) jeung dipaké dina kuantitas badag dina alloy molybdenum-niobium pikeun Liquid Crystal Display (LCD) sumber cuboid tampilan kristal cair, tampilan émisi médan, tampilan organik lampu-emitting, plasma. panels tampilan, tampilan cathodoluminescence, tampilan fluoresensi vakum, TFT tampilan fléksibel tur rampa layar, jsb Éléktron beam évaporasi tina panel prosés tampilan bisa nyieun deposit Niobium dina tungtung luhur emitter, nu bakal pohara mantuan dina ngamekarkeun layar badag kalayan harti luhur.

Bahan Khusus Beunghar khusus dina Pabrikan Target Sputtering sareng tiasa ngahasilkeun Bahan Sputtering Molybdenum Niobium numutkeun spésifikasi Pelanggan. Kanggo inpo nu leuwih lengkep, mangga ngahubungan kami.