Wilujeng sumping di situs wéb kami!

CuIn Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun

Tambaga Indium

Katerangan pondok:

Kategori

Paduan Sputtering Target

Rumus Kimia

CuIn

Komposisi

Tambaga Indium

Kasucian

99,9%, 99,95%, 99,99%

Wangun

Pelat, Sasaran Kolom, katoda busur, Dijieun khusus

Prosés Produksi

Lebur vakum

Ukuran sadia

L≤2000mm, W≤200mm


Rincian produk

Tag produk

Target sputtering alloy tambaga Indium didamel sacara konvensional ku cara lebur induksi vakum. Indium bisa ngabentuk tipena béda alloy indium kalawan ampir sakabéh unsur dina tabel periodik. Tambaga Indium alloy mangrupakeun alloy binér, biasana dipaké salaku alloy lebur lemah sareng alloy brazing.

Tambaga Indium alloy sputtering target boga kaunggulan noticeable yén éta bisa ngahasilkeun coatings PVD kalawan konduktivitas listrik alus teuing jeung ukuran sisikian refined. Bisa mantuan dina formasi lapisan CIGS, kalawan komposisi tambaga (Cu), gallium (Ga), indium (Dina) jeung selenium (Se) sarta dingaranan bagian konstituén maranéhanana. CIGS boga efisiensi konversi photovoltaic tinggi, jadi éta adaptable pikeun pamakéan salaku lapisan nyerep pikeun sél surya.

Bahan Khusus Beunghar specializes dina Pabrik Sputtering Target sarta bisa ngahasilkeun Tambaga Indium Sputtering Bahan nurutkeun spésifikasi Konsumén '. Kanggo inpo nu leuwih lengkep, mangga ngahubungan kami.


  • saméméhna:
  • Teras: