CrSi Alloy Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun

Fabrikasi Target Sputtering Chronium Silicon ngandung léngkah-léngkah ieu:
1.Vacuum lebur of Silicon jeung Chronium pikeun ménta alloy hambalan.
2.Powder grinding, dipak na évakuasi.
3.Hot perlakuan mencét isostatic pikeun meunangkeun produk semi-rengse.
4.Machining nu kasar alloy kromium-silikon sputtering bahan target pikeun ménta bahan target sputtering alloy kromium-silikon.

CrSi sering dianggo salaku bahan pilem résistansi anu luhur, éta gaduh résistansi anu luhur, stabilitas sareng koefisien résistansi suhu rendah. Kronium jeung Silicon bisa ngahasilkeun loba fase silicide kawas Cr3Si, Cr5Si3,, CrSi, CrSi2. Prosés produksi, komposisi jeung prosés perlakuan Panas pilem CrSi greatly mangaruhan kinerja na.

Bahan Khusus Beunghar khusus dina Pabrikan Target Sputtering sareng tiasa ngahasilkeun Bahan Sputtering Chronium Silicon nurutkeun spésifikasi Pelanggan. Kanggo inpo nu leuwih lengkep, mangga ngahubungan kami.