CoFe Alloy Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun

Kobalt Beusi sputtering target ieu fabricated ku cara lebur vakum sarta mibanda rentang proporsi lega (5% -70% eusi Kobalt). Kobalt jeung Beusi bisa ngabentuk leyuran padet, jadi alloying dua elemen ieu bisa ménta mikrostruktur homogen, ukuran sisikian seragam, purity tinggi, jeung dénsitas. Éta tiasa dianggo pikeun neundeun pilem ipis dina rupa-rupa bahan dina industri panyimpen data pikeun sipat magnét lemes anu alus teuing.

Kobalt alloy Beusi mindeng dipaké salaku katalis dina produksi polycrystalline inten (PCD) nu disebutkeun bakal nyandak malah leuwih tekanan sarta hawa nu leuwih luhur pikeun ngahontal. Inten dihasilkeun ku alloy Co-Fe boga kakuatan tinggi na purity tur bisa jadi bahan poténsial pikeun motong teuas sarta ngabentuk parabot.

Bahan Khusus Beunghar khusus dina Pabrikan Target Sputtering sareng tiasa ngahasilkeun Bahan Sputtering Beusi Kobalt numutkeun spésifikasi Pelanggan. Kanggo inpo nu leuwih lengkep, mangga ngahubungan kami.