Borongan AlCr Alloy Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Custom Made Produsén jeung Supplier

Aluminium Chromium

AlCr Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Katerangan pondok:

Kategori	Paduan Sputtering Target
Rumus Kimia	AlCr
Komposisi	Aluminium Chromium
Kasucian	99,7%, 99,9%, 99,95%
Wangun	Pelat, Sasaran Kolom, katoda busur, Dijieun khusus
Prosés Produksi	PM
Ukuran sadia	L≤2000mm, W≤200mm

Kirim surélék ka kami

Rincian produk

Tag produk

Aluminium Chromium Sputtering Target Pedaran

target sputtering aluminium kromiumti Bahan Khusus Beunghar mangrupakeun bahan sputtering alloy anu ngandung Al sareng Cr. Ku kituna, étatarget sputter aluminium kromiumboga kaunggulan tina dua elemen ieu.

Aluminium, disebut oge alumunium, mangrupakeun unsur kimia anu asalna tina ngaran Latin pikeun alum, 'alumen' hartina uyah pait. Ieu mimiti disebutkeun dina 1825 sarta dititénan ku HCÃ˜rsted. Isolasi ieu engké dilaksanakeun sareng diumumkeun ku HCÃ˜rsted. "Al" nyaéta simbol kimia kanonik aluminium. Nomer atomna dina tabel periodik unsur nyaéta 13 kalayan lokasina dina Periode 3 jeung Grup 13, milik blok-p. Massa atom relatif aluminium nyaéta 26,9815386(8) Dalton, jumlah dina kurung nunjukkeun kateupastian.

Kromium nyaéta unsur kimia anu asalna tina basa Yunani 'chroma', hartina warna. Ieu mimiti dipaké saméméh 1 AD sarta kapanggih ku Tentara Terracotta. "Cr" nyaéta simbol kimia kanonik kromium. Nomer atomna dina tabel periodik unsur nyaéta 24 kalayan lokasina di Periode 4 jeung Golongan 6, kagolong kana d-blok. Massa atom rélatif kromium nyaéta 51.9961(6) Dalton, jumlah dina kurung anu nunjukkeun kateupastian.

Sasaran khas AlCr kami sareng pasipatanana

	Cr-70Aldi%	Cr-60Aldi%	Cr-50Aldi%
Kamurnian (%)	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95
Kapadetan(g/cm³）	3.7	4.35	4.55
Ghujan Ukuran(µm)	100/50	100/50	100/50
Prosés	HIP	HIP	HIP

Bahan Khusus Beunghar specializes dina Pabrik Sputtering Target sarta bisa ngahasilkeun Chronium Aluminium Silicon Sputtering Bahan nurutkeun spésifikasi Konsumén '. Produk kami ngagaduhan sipat mékanis anu saé, struktur homogen, permukaan anu digosok tanpa segregasi, pori atanapi retakan. Kanggo inpo nu leuwih lengkep, mangga ngahubungan kami.

saméméhna: CrAlSi Alloy Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun

Teras: CrAlMo Alloy Sputtering Target High Purity Ipis Film Pvd palapis Adat Dijieun