Filimi e tšesaane holim'a sepheo se koahetsoeng ke sebopeho se khethehileng sa thepa. Ka lehlakoreng le tobileng la botenya, sekala se senyenyane haholo, e leng palo e ka lekanyetsoang ea microscopic. Ho phaella moo, ka lebaka la ponahalo le segokanyimmediamentsi sa sebolokigolo filimi botenya, ho tsoela pele lintho tse bonahalang e khaotsa, e leng se etsang hore ya data filimi le ya data shebiloeng ba le thepa e sa tšoaneng e tloaelehileng. 'Me sepheo ke haholo-holo ho sebelisa magnetron sputtering barbotage, mohlophisi Beijing Richmat tla nka hore re utloisise. molao-motheo le litsebo tsa ho roala ka metsi.
一、Molao-motheo oa ho roala sputtering
Bokhoni ba ho roala ke ho sebelisa ponahalo ea ion shelling target, liathomo tse shebiloeng li tsoa ketsahalong e tsejoang e le sputtering. Liathomo tse behiloeng holim'a substrate li bitsoa sputtering coating. Ka kakaretso, ionization ea khase e hlahisoa ke ho tsoa ha khase, 'me li-ion tse ntle li hlasela sepheo sa cathode ka lebelo le phahameng tlas'a ts'ebetso ea tšimo ea motlakase, ho otla liathomo kapa limolek'hule tsa motlakase. cathode target, le ho fofa ka holim'a substrate ho kenngoa filimi. khatello e tlase ea khase e khanyang ea khase ho hlahisa li-ion.
Ka kakaretso, lisebelisoa tsa ho roala filimi tse sputtering li na le li-electrode tse peli ka phaposing ea vacuum discharge, 'me sepheo sa cathode se entsoe ka data ea ho roala. Kamore ea vacuum e tletse khase ea argon ka khatello ea 0.1 ~ 10Pa. Phokotso e khanyang e hlaha ka har'a cathode tlas'a ts'ebetso ea voltage e mpe e phahameng ea 1 ~ 3kV dc kapa rf voltage ea 13.56mhz. Li-ion tsa Argon li hlasela bokaholimo ba sepheo 'me li etsa hore liathomo tse shebiloeng li bokelle holim'a substrate.
二、 Litšobotsi tsa litsebo tsa ho roala li-sputtering
1, Fast stacking lebelo
Phapang pakeng tsa eleketrode ea lebelo le phahameng la magnetron sputtering electrode le electrode ea khale ea sethala sa tse peli ke hore makenete o hlophisitsoe ka tlase ho sepheo, kahoo matla a khoheli a koetsoeng a hlaha holim'a sepheo.Matla a lorentz ho lielektrone a lebile bohareng. ea matla a khoheli a fapaneng. Ka lebaka la phello e lebisang tlhokomelo, li-elektronike li baleha hanyane. Matla a khoheli a sa tšoaneng a pota-potile sebaka seo ho shebiloeng ho sona, 'me li-electrone tsa bobeli tse nkiloeng sebakeng sa heterogeneous magnetic field li thulana le limolek'hule tsa khase khafetsa, e leng ho ntlafatsang lebelo le phahameng la ho fetoha ha limolek'hule tsa khase. e ka fumana ts'ebetso e ntle ea ho roala, e nang le litšobotsi tse ntle tsa ho tsoa.
2, mocheso oa substrate o tlase
High speed magnetron sputtering, e tsejoang hape e le mocheso o tlase oa sputtering. Lebaka ke hore sesebelisoa se sebelisa lits'oants'o sebakeng sa masimo a motlakase a tobaneng. Li-electrone tsa bobeli tse hlahang ka ntle ho sepheo, ho tse ling. Tlas'a ketso ea tšimo e otlolohileng ea motlakase, e tlameletsoe haufi le sebaka sa sepheo 'me e tsamaea haufi le tsela ea sefofane ka mohala o chitja, e ntse e kokota khafetsa khahlanong le limolek'hule tsa khase ho ionize limolek'hule tsa khase. Hammoho, lielektrone ka botsona butle-butle li lahleheloa ke matla a tsona. maqhubu a pheta-phetoang, ho fihlela matla a bona a batla a felile ka ho feletseng pele a ka baleha holim'a sepheo se haufi le substrate. Hobane matla a lielektrone a le tlase haholo, mocheso oa sepheo ha o phahame haholo. Ho lekane ho thibela ho phahama ha mocheso oa substrate ho bakoang ke ho phatloha ha elektrone e matla haholo ea thunya e tloaelehileng ea diode, e qetellang cryogenization.
3. Mehaho e mengata e fapaneng ea lera
Sebopeho sa lifilimi tse tšesaane tse fumanoang ka mouoane oa vacuum le ho kenngoa ha ente li fapane haholo le tse fumanoang ka ho fokotsa lintho tse ngata tse tiileng. Ho fapana le lintho tse tiileng tse teng ka kakaretso, tse khetholloang e le sebopeho se ts'oanang ka likarolo tse tharo, lifilimi tse behiloeng karolong ea khase li khetholloa e le mehaho e sa tšoaneng. Kholo e kholo ea filimi e bakoa ke sebaka sa pele sa convex sa substrate le meriti e 'maloa likarolong tse hlahelletseng tsa substrate. Leha ho le joalo, sebopeho le boholo ba kholomo li fapane haholo ka lebaka la mocheso oa substrate, ho hasana holimo ha liathomo tse bokelletsoeng, ho patoa ha liathomo tse sa hloekang le ketsahalo ea Angle ea liketsahalo tsa liathomo tse amanang le bokaholimo ba substrate. Mocheng o feteletseng oa mocheso, filimi e tšesaane e na le sebopeho sa fibrous, sekhahla se phahameng, se entsoeng ka likristale tse ntle tsa columnar, e leng sebopeho se ikhethang sa filimi ea sputtering.
Khatello ea sputtering le lebelo la stacking filimi le tsona li ama sebopeho sa filimi. Hobane limolek'hule tsa khase li na le phello ea ho hatella ho hasana ha liathomo holim'a substrate, phello ea khatello e phahameng ea sputtering e loketse ho theoha ha mocheso oa substrate ka mohlala. Ka hona, lifilimi tsa porous tse nang le lijo-thollo tse ntle li ka fumanoa ka khatello e phahameng ea sputtering. Filimi ena e nyane ea boholo ba lijo-thollo e loketse ho tlotsa, ho hanyetsa ho roala, ho thatafatsa holim'a metsi le lisebelisoa tse ling tsa mochini.
4. Hlophisa sebopeho ka ho lekana
Metsoako, metsoako, lialloi, joalo-joalo, tseo ho leng thata ka ho loketseng ho koaheloa ke mouoane oa vacuum hobane likhatello tsa mouoane tsa likarolo li fapane kapa hobane lia fapana ha li futhumatsoa. ho substrate, ka kutloisiso ena ke tsebo e phethahetseng ea ho etsa lifilimi. Mefuta eohle ea thepa e ka sebelisoa tlhahisong ea ho roala liindasteri ka ho sputtering.
Nako ea poso: Apr-29-2022