O le faʻamoemoe e iai se maketi lautele, nofoaga faʻaoga ma atinaʻe tetele i le lumanaʻi. Ina ia fesoasoani ia te oe ia maua se malamalama sili atu i galuega fa'atatau, o lo'o i lalo ole inisinia RSM o le a fa'alauiloa pu'upu'u mana'oga autu o le fa'amoemoega.
Mama: mama o se tasi lea o faʻailoga autu o galuega o le faʻamoemoe, aua o le mama o le faʻamoemoe e i ai se aafiaga tele i le gaioiga o le ata. Ae ui i lea, i le faʻatinoga faʻatinoga, o manaoga mama o le sini e ese foi. Mo se faʻataʻitaʻiga, faʻatasi ai ma le televave o le atinaʻeina o pisinisi microelectronics, o le tele o le silicon wafer ua faʻalauteleina mai le 6 "i le 8" i le 12 ", ma o le lautele o le uaea e faʻaititia mai le 0.5um i le 0.25um, 0.18um poʻo le 0.13um. I le taimi muamua, 99.995% o le mama sini e mafai ona ausia le faagasologa o manaʻoga o le 0.35umic, ae o le sauniuniga o laina 0.18um e manaʻomia ai le 99.999% poʻo le 99.9999% o le mama sini.
O lo'o i totonu o mea le mama: o mea leaga i totonu o mea fa'atatau ma le okesene ma le vai ausa i pores o fa'apogai autu ia o le fa'aleagaina o ata tifaga. O sini mo fa'amoemoega 'ese'ese e iai mana'oga 'ese'ese mo mea 'ese'ese le mama. Mo se faʻataʻitaʻiga, o mea faʻapipiʻi alumini mama ma alumini faʻaogaina i totonu o pisinisi semiconductor e iai manaʻoga faʻapitoa mo mea e maua ai le alkali ma mea elemene elemene.
Density: ina ia faʻaitiitia le pores i totonu o le faʻamoemoega mautu ma faʻaleleia le galuega o le sputtering ata tifaga, o le sini e masani lava ona manaʻomia le maualuga maualuga. O le mamafa o le taulaʻiga e le gata ina aʻafia ai le sputtering rate, ae e aʻafia ai foi le eletise ma le faʻaogaina o le ata. O le maualuga o le maualuga o le taulaiga, o le sili atu lea o le aoga o le ata. E le gata i lea, o le mamafa ma le malosi o le faʻamoemoe e faʻaleleia ina ia mafai ai e le taulaʻi ona talia lelei le faʻamalosia o le vevela i le faagasologa o le sputtering. O le to'atele o se tasi lea o fa'ailoga autu o galuega o le fa'amoemoe.
Taimi meli: Me-20-2022