O le ata manifinifi i luga o le taulaʻi faʻapipiʻiina o se mea faʻapitoa faʻapitoa. I le itu patino o le mafiafia, o le fua e matua laʻititi, o se microscopic fua faʻatatau. E le gata i lea, ona o foliga vaaia ma le faʻaogaina o le mafiafia o ata tifaga, faʻamutaina le faʻaauauina o meafaitino, lea e faʻamutaina ai faʻamatalaga ata ma faʻamaumauga faʻamaumauga e iai mea masani masani. le mataupu faavae ma tomai o le sputtering coating.
一, Fa'avae o le fa'apipi'iina o le sputtering
Sputtering coating tomai o le faʻaaogaina o le atigi ion foliga taulaʻi, o le faʻamoemoega atoms e lavea i fafo o le mea e taʻua o sputtering. O atoms o loʻo teuina i luga o le pito i luga o le substrate ua taʻua o le sputtering coating. E masani lava, o le kasa ionization e gaosia e ala i le lafoaia o le kesi, ma o ion lelei e pomu ai le sini o le cathode i le saoasaoa maualuga i lalo o le gaioiga o le eletise eletise, ma taia ai atoms poʻo mole o le. sini cathode, ma lele i luga o le substrate e teuina i totonu o se film.Simply tautala, sputtering coating faʻaaogaina le maualalo o le mamafa inert kasa glow. lafoa'i e fa'atupu ai ions.
E masani lava, o le sputtering ata tifaga faʻapipiʻiina meafaigaluega e lua electrodes i se potu lafoaʻi gaogao, ma o le sini cathode e aofia ai faamatalaga coating. O le potu gaogao ua tumu i argon gas ma le mamafa o le 0.1 ~ 10Pa. O le faʻamalama faʻafefe e tupu i le cathode i lalo o le gaioiga o le leaga maualuga voltage o le 1 ~ 3kV dc poʻo le rf voltage o le 13.56mhz.Argon ions pomu i luga o le sini ma mafua ai ona faʻaputuina atoms taulaʻi sputtered i luga o le substrate.
二, Sputtering uiga tomai faʻapipiʻi
1, Saosaoa faaputu vave
O le eseesega i le va o le maualuga maualuga o le magnetron sputtering electrode ma le tulaga masani e lua sputtering electrode o le maneta ua faatulagaina i lalo o le sini, o lea o le maneta le tutusa tapunia e tupu i luga o le mata o le sini. o le maneta eseese. Ona o le aʻafiaga o le taulaʻi, e itiiti le sola ese o le eletise. O le fanua maneta heterogeneous alu faataamilo i luga o le sini, ma le electrons lona lua puʻeina i le fanua maneta heterogenous fetoʻai ma moleke kasa soo, lea e faaleleia ai le fua faatatau o le liua maualuga o le kesi mole. e mafai ona maua se faʻalelei sili ona lelei, faʻatasi ai ma uiga faʻamalolo lelei.
2、E maualalo le vevela substrate
Sputtering magnetron maualuga, e lauiloa foi o le maualalo o le vevela sputtering. O le mafuaʻaga o le faʻaogaina e le masini faʻamalo i se avanoa o eletise eletise e saʻo le tasi i le isi. O le eletise lona lua e tupu i fafo o le sini, i le tasi ma le isi. I lalo o le gaioiga o se fanua electromagnetic saʻo, e fusifusia i tafatafa o le mata o le sini ma agai i luga o le auala i se laina taʻavale lapotopoto, tuʻituʻi soo i le kesi molelaula e ionize le kesi molecules. Together, le electrons lava latou faasolosolo lemu lo latou malosi, e ala i fa'alavelave fa'afuase'i, se'ia toeitiiti lava mou atoa lo latou malosi a'o le'i mafai ona latou sosola ese mai le pito i luga o le fa'atatau i tafatafa o le mea'ai. Ona o le malosi o le eletise e matua maualalo, o le vevela o le sini e le maualuga tele. Ua lava lena e tetee atu ai i le maualuga o le vevela o le substrate e mafua mai i le malosi o le eletise eletise o se fana masani o le diode, lea e maeʻa ai le cryogenization.
3, O le tele o ituaiga membrane fausaga
O le fausaga o ata manifinifi e maua mai i le fa'asao o le gaogao ma le tu'iina o le tui e matua'i ese lava mai le mea na maua mai i le fa'amama fa'amama fa'atosina. I le faʻatusatusaina o mea faʻapitoa o loʻo i ai, o loʻo faʻavasegaina e pei o le fausaga tutusa i itu e tolu, o ata na teuina i le vaega o le kesi o loʻo faʻavasegaina o fausaga eseese. O le tuputupu aʻe o le koluma o le ata e mafua mai i le muamua convex luga o le substrate ma ni nai ata lafoia i vaega iloga o le substrate. Ae ui i lea, o le foliga ma le lapopoa o le koluma e fai lava si ese ona o le vevela o le substrate, o le faʻasalalauina o luga o atoms faʻapipiʻi, o le tanumia o atoms le mama ma le mea na tupu Angle o mea tutupu faʻatatau i luga ole substrate. I le maualuga o le vevela, o le ata manifinifi o loʻo i ai se fausaga fibrous, maualuga maualuga, faʻapipiʻiina i tioata sili ona lelei, o le fausaga tulaga ese lea o le ata sputtering.
Sputtering pressure ma ata fa'aputu saoasaoa e a'afia ai fo'i le fausaga o le ata. Talu ai ona o mole kesi o loʻo i ai le aʻafiaga o le taofiofia o le taʻapeʻapeina o atoms i luga o le pito i luga o le substrate, o le aʻafiaga o le maualuga o le sputtering mamafa e talafeagai mo le pa'ū vevela substrate i le faʻataʻitaʻiga. O le mea lea, o ata porous o loʻo i ai fatu lelei e mafai ona maua i le maualuga o le sputtering pressure. O lenei tama'i saito tele ata tifaga e talafeagai mo lubrication, ofuina tete'e, fa'amalo luga ma isi masini talosaga.
4. Fa'atulaga tutusa le tuufaatasiga
Fa'afefiloi, fa'afefiloi, u'amea, ma isi, lea e fetaui ma le faigata ona ufiufi e le vacuum vacuum evaporation ona o le mamafa o le ausa o vaega e eseese pe ona e eseese pe a faʻavela. i le substrate, i lenei tulaga o se ata sili atu atoatoa tomai faia. O ituaiga uma o meafaitino e mafai ona faʻaaogaina i le gaosiga o mea faʻapipiʻi fale gaosi oloa e ala ile sputtering.
Taimi meli: Apr-29-2022