Vacuum coating e faatatau i le faʻamafanafanaina ma le faʻafefeina o le puna o le faʻafefe i totonu o le vacuum poʻo le sputtering ma le faʻavaveina o le pomu ion, ma tuʻuina i luga o le mea e fai ai se ata e tasi-lapisi poʻo multi-layer. O le a le faʻavae o le faʻapipiʻi gaogao? Sosoo ai, o le faatonu o le RSM o le a faailoa mai ia i matou.
1. Fa'afusu fa'afufu fa'alavalava
O le ufiufi o le fa'asao e mana'omia ai le mamao i le va o molelaula ausa po'o atoms mai le puna fa'asao ma le substrate e fa'apipi'iina e tatau ona la'ititi nai lo le ala sa'oloto o lo'o totoe mole kasa i totonu o le potu fa'apipi'i, ina ia fa'amautinoa ai o le ausa mole o le. e mafai ona o'o atu le fa'asao i luga o le substrate e aunoa ma le feto'ai. Ia mautinoa o le ata tifaga e mama ma mausali, ma o le a le faʻafefeteina le faʻafefe.
2. Vacuum sputtering ufiufi
I totonu o le vacuum, pe a fetoʻai ions faʻavavevave ma le malo, i le tasi itu, ua faaleagaina le tioata, i le isi itu, latou fetoʻai ma atoms e fausia ai le tioata, ma mulimuli ane atoms po o molecules i luga o le mata o le malo. ta'u i fafo. O le mea ua sputtered ua ufiufi i luga o le substrate e fausia ai se ata manifinifi, lea e taʻua o le vacuum sputter plating. E tele auala fa'afefeteina, fa'atasi ai ma le fa'aosoina o le diode o le mea muamua lea. E tusa ai ma sini eseese cathode, e mafai ona vaevaeina i le taimi nei tuusao (DC) ma le tele o taimi (RF). Ole aofa'i ole atoma ua ta'e ile a'afia ole pito i luga ole ion ua ta'ua ole fua ole sputtering. Faatasi ai ma le maualuga o le sputtering, o le saoasaoa o le fausiaina o ata e vave. Ole fua ole sputtering e feso'ota'i ma le malosi ma le ituaiga o ion ma le ituaiga mea fa'atatau. I le tulaga lautele, o le sputtering rate e faateleina i le faateleina o le malosi o le ion a le tagata, ma o le tau o le sputtering o metala taua e maualuga atu.
Taimi meli: Iul-14-2022