E pei ona tatou iloa uma, o le vacuum evaporation ma le ion sputtering e masani ona faʻaaogaina i le vacuum coating. O le a le 'ese'esega i le va o le fa'a'aisa o le ufiufi ma le fa'afefete? O le isi, o tagata tomai faʻapitoa mai le RSM o le a faʻasoa mai ia i matou.
Vacuum evaporation coating o le vevela lea o mea e faʻafefe i se vevela faapitoa e ala i le faʻavevelaina o le vevela poʻo le eletise eletise ma le pomu leisa i totonu o se siosiomaga ma se tikeri gaogao e le itiiti ifo i le 10-2Pa, ina ia mafai ai e le vevela vevela malosi o molelaʻau poʻo. atoms i totonu o mea e sili atu i le malosi o le fusifusia o luga, ina ia o se numera tele o molelaʻau poʻo atoms evaporate pe sublimate, ma saʻo precipitate i luga o le substrate i. fai se ata tifaga. Ion sputtering coating e faʻaaogaina ai le televave o gaioiga o ion lelei e mafua mai i le kesi o le kesi i lalo o le gaioiga a le eletise eletise e osofaʻi ai le sini e pei o le cathode, ina ia mafai ai e atoms poʻo molelaʻau i totonu o le sini ona sola ese ma faʻafefe i luga o le mea faigaluega faʻapipiʻi e fausia. le ata e mana'omia.
O le auala e sili ona masani ona faʻaaogaina o le faʻafefeteina o le vacuum evaporation coating o le faʻamafanafanaina o le tetee, lea e iai le lelei o le fausaga faigofie, tau maualalo ma le faʻaogaina faigofie; O le le lelei e le talafeagai mo metals refractory ma maualuga vevela mea dielectric tetee. Electron beam fa'avevela ma fa'avevela leisa e mafai ona fa'ato'ilaloina fa'aletonu o le fa'avevela fa'asao. I le faʻavevela eletise eletise, o le faʻaogaina o le eletise eletise e faʻaaogaina e faʻavevela saʻo ai le mea na osofaʻia, ma o le malosi kinetic o le eletise eletise e avea ma malosiaga vevela, lea e faʻafefe ai mea. Leisa fa'avevela fa'aaogaina leisa maualuga e fai ma fa'avevela, ae ona o le tau maualuga o le laser maualuga, e mafai ona fa'aaogaina i nai fale su'esu'e i le taimi nei.
Sputtering tekinolosi e ese mai le masini evaporation tekinolosi. O le “sputtering” e faasino i le tulaga lea e osofaʻia ai e ni mea ninii ua molia i luga o le fogāeleele (taulaʻiga) ma faia ai atomu malo po o molelaʻau e fana mai i luga. O le tele o vaega emitted o lo'o i totonu o le tulaga atomika, lea e masani ona ta'ua o atoms sputtered. O mea'ai ua fa'aaogaina e tu'i ai le fa'amoemoe e mafai ona fa'aeletonika, ion po'o ni mea e le tutusa. Ona o ions e faigofie ona faʻavave i lalo o le eletise eletise e maua ai le malosi o le kinetic e manaʻomia, o le tele o latou faʻaaogaina ions e pei o ni vaega pomu. O le fa'agasologa o le Sputtering e fa'avae i luga o le susulu o le susulu, o lona uiga, o ion sputtering e sau mai le kesi. 'ese'ese fa'atekonolosi sputtering fa'aaogaina auala fa'avevela ese'ese. DC diode sputtering fa'aaogaina le fa'amalo DC; Triode sputtering o se susulu malamalama e lagolagoina e cathode vevela; RF sputtering fa'aaogaina RF glow discharge; Magnetron sputtering o se fa'ase'e susulu e pulea e se maneta fa'anumera.
Fa'atusatusa i le vacuum evaporation coating, sputtering coating e tele mea lelei. Mo se faʻataʻitaʻiga, soʻo se mea e mafai ona faʻafefe, aemaise elemene ma mea faʻapipiʻi e maualuga le liusuavai ma maualalo le mamafa o le ausa; O le pipii i le va o sputtered ata tifaga ma substrate lelei; maualuga ata tifaga; E mafai ona pulea le mafiafia o le ata ma e lelei le toe faʻaleleia. O le mea le lelei o le meafaigaluega e faigata ma e manaʻomia ai masini eletise maualuga.
E le gata i lea, o le tuʻufaʻatasiga o auala evaporation ma sputtering auala o le ion plating. O le lelei o lenei metotia o le ata maua mai e malosi le pipii ma le substrate, maualuga le faʻapipiʻiina ma maualuga ata tifaga.
Taimi meli: Iul-20-2022