E pei ona tatou iloa uma, o metotia e masani ona faʻaaogaina i le faʻamalo o le vacuum transpiration ma le ion sputtering. O le a le eseesega i le va o le transpiration coating ma sputtering coating Teletagata iai ni fesili faapena. Sei o tatou faasoa atu ia te oe le eseesega i le va o le transpiration coating ma sputtering coating
Vacuum transpiration ata tifaga o le vevela lea o faʻamatalaga e avea ma transpiration i se vevela tumau e ala i le faʻavevelaina o le vevela poʻo le eletise eletise ma le faʻafefeteina leisa i totonu o se siosiomaga ma se tikeri gaogao e le itiiti ifo i le 10-2Pa, ina ia mafai ai e le vevela vevela malosi o molelaʻau poʻo. atoms i faʻamatalaga e sili atu i le malosi o le fusifusia o luga, ina ia tele molelaula poʻo atoms transpiration po o faateleina, ma tuu saʻo i latou i luga o le substrate e fausia ai se ata tifaga. Ion sputtering coating e faʻaaogaina ai le maualuga o le faʻaogaina o ion lelei e faʻatupuina e ala i le kesi i lalo o le aafiaga o le eletise eletise e osofaʻia ai le sini e pei o le cathode, ina ia mafai ai e atoms poʻo mole mole i totonu o le sini ona sola ese ma teu i luga o le mea faigaluega faʻapipiʻi e fausia. le ata e mana'omia.
O le auala sili ona masani ona faʻaaogaina o le faʻapipiʻiina o le gaogao o le faʻamafanafanaina o le faʻafefe. O lona lelei o le fausaga faigofie o le faʻavevelaina puna, tau maualalo ma le faʻaogaina faigofie. O ona fa'aletonu e le talafeagai mo u'amea refractory ma fa'asalalauga maualuga le vevela. Electron beam fa'avevela ma fa'avevela leisa e mafai ona fa'ato'ilaloina le le lelei o le fa'avevela fa'asaga. I le fa'avevela fa'aeletonika, o lo'o fa'aogaina le fa'aogaina o le fa'aeletonika e fa'ao'o sa'o ai fa'amaumauga o atigi, ma o le malosi o le kinetic beam e avea ma malosi vevela e fa'atupu ai le fa'aliliuina o fa'amaumauga. Leisa fa'avevela fa'aaogaina leisa maualuga-mana e pei o le fa'avevela fa'apogai, ae ona o le maualuga o le tau o le laser-maualuga, e mafai ona fa'aaogaina i se vaega to'aitiiti o fale su'esu'e.
E ese le tomai fa'a'a'ai mai le tomai fa'amama. O le Sputtering e faasino i le mea mataʻutia e osofaʻia ai vaega laiti i luga o le tino (taulaʻi) o le tino, ina ia mafai ai ona alu ese mai luga o le tino. O le tele o vaega o lo'o tu'uina atu o le atomic, lea e masani ona ta'ua o atoms sputtered. O mea'ai fa'afefeteina e fa'aaogaina mo le fa'apa'iina o sini e mafai ona fa'aeletonika, ion po'o mea e le tutusa. Ona o ions e faigofie ona maua le malosi kinetic manaʻomia i lalo o le eletise eletise, ions e tele lava filifilia e pei o atigi vaega.
O le fa'agasologa o le sputtering e fa'avae i luga o le susulu o le susulu, o lona uiga, o le sputtering ion e sau mai le kesi. E ese'ese tomai sputtering e 'ese'ese auala fa'avevelaina. DC diode sputtering fa'aaogaina le fa'amalo DC; Triode sputtering o se susulu malamalama e lagolagoina e cathode vevela; RF sputtering fa'aaogaina RF glow discharge; Magnetron sputtering o se fa'ase'e susulu e pulea e se maneta fa'anumera.
Fa'atusatusa i le vacuum transpiration coating, sputtering coating e tele mea lelei. Afai ei ai se mea e mafai ona sputtered, ae maise elemene ma tuufaatasiga e maualuga le liusuavai ma maualalo le mamafa o le ausa; O le pipii i le va o sputtered ata tifaga ma substrate lelei; maualuga ata tifaga; E mafai ona pulea le mafiafia o le ata ma e lelei le toe faʻaleleia. O le mea le lelei o le meafaigaluega e faigata ma e manaʻomia ai masini eletise maualuga.
E le gata i lea, o le tuʻufaʻatasiga o le transpiration method ma sputtering method is ion plating. O le lelei o lenei metotia o le pipii malosi i le va o le ata tifaga ma le substrate, maualuga le faʻapipiʻiina ma le maualuga o le ata.
Taimi meli: Me-09-2022