Uiga o le maualuga maualuga le mama alumini sputtering sini

I tausaga talu ai nei, faʻatasi ai ma le alualu i luma o le fesoʻotaʻiga fesoʻotaʻiga (IC) tekonolosi, o faʻaoga fesoʻotaʻi o fesoʻotaʻiga tuʻufaʻatasia ua vave ona atiaʻe. Ultra maualuga mama alumini alumini sputtering sini, e avea o se mea lagolago i le gaosiga o fesoʻotaʻiga uʻamea fesoʻotaʻiga, ua avea ma autu vevela i suʻesuʻega faʻapitonuʻu talu ai nei. le faatonu o le RSM o le a faaali mai ia i tatou uiga o le maualuga mama alumini alumini sputtering sini.

Ina ia faʻaleleia atili le faʻaleleia atili o le faʻaogaina o le magnetron sputtering sini ma faʻamautinoa le lelei o ata na teuina, o le tele o suʻega e faʻaalia ai o loʻo i ai ni manaʻoga faapitoa mo le tuufaatasiga, microstructure ma le faʻatulagaina o saito o le ultra-maualuga mama alumini alumini sputtering sini.

Ole tele ole saito ma le fa'asologa o saito o le fa'amoemoe e iai sona a'afiaga tele ile tapenaga ma meatotino o ata IC. O fa'ai'uga o lo'o fa'aalia ai le fa'aitiitia o le fa'aputuina i le fa'ateleina o le saito; Mo le manumanu faʻapipiʻi faʻatasi ma le tuʻufaʻatasiga tutusa, o le fua o le faʻafefe o le faʻatau ma le laʻititi laʻititi e sili atu le vave nai lo le faʻamoemoe e tele saito; O le tele o le togiga o le saito o le sini, o le sili atu lea o le tutusa o le tufatufa mafiafia o ata na teuina.

I lalo o le meafaigaluega sputtering tutusa ma faiga taʻiala, o le sputtering fua faatatau Al Cu alloy faʻatuputeleina i le faateleina o le atomic density, ae e masani ona mautu i se tulaga. O le a'afiaga o le saito i luga o le fua o le sputtering e mafua mai i le suiga o le mamafa o le atomic ma le suiga o le saito; Ole fua ole fa'aputuina e tele lava ina a'afia ile fa'asologa o saito ole Al Cu alloy target. I luga o le faʻavae o le faʻamautinoaina o le vaega o (200) vaalele tioata, o le faʻateleina o le faʻatusatusaga o (111), (220) ma (311) vaalele tioata o le a faʻateleina ai le faʻapipiʻiina.

O le saito tele ma le saito orientation o ultra-maualuga mama alumini alumini sini e masani lava fetuunai ma pulea e ingot homogenization, galue vevela ma recrystallization annealing. Faatasi ai ma le atinaʻeina o le tele o le wafer i le 20.32cm (8in) ma le 30.48cm (12in), o loʻo faʻateleina foi le fua faʻatatau, lea e tuʻuina atu i luma manaʻoga maualuga mo le maualuga-maualuga mama alumini alumini sputtering sini. Ina ia mautinoa le lelei o ata tifaga ma fua mai, e tatau ona matua faʻatonutonuina le faʻatulagaina o faʻasologa faʻatulagaina ina ia faia ai le toniga microstructure sini ma le faʻasologa o saito e tatau ona malosi (200) ma le (220) faʻailoga vaalele.