CrAlSi Alloy Sputtering Target High mama manifinifi ata Pvd fa'apipi'i Fa'apitoa

O le fausiaina o Chronium Aluminum Silicon Sputtering Targets e aofia ai laasaga nei:
1. Vacuum liusuavai o Silicon, Aluminum ma Chronium e maua ai alloys laasaga.
2. Fa'afefiloi ma fa'afefiloi.
3.Hot isostatic fetaomi togafitiga e maua ai le chromium Aluminum silicon alloy sputtering sini.
Chronium Aluminum Silicon Sputtering Targets o loʻo faʻaaogaina tele i le tipiina o mea faigaluega ma faʻataʻitaʻiga, ona o lona teteʻe ma le maualuga o le faʻamaʻiina o le vevela e faʻaleleia ai le faʻatinoga o ata.
O se vaega amorphous Si3N4 o le a fausia i le faagasologa o le PVD o CrAlSi sini. Ona o le faʻapipiʻiina o le vaega amorphous Si3N4, o le tuputupu aʻe o le saito e mafai ona taofiofia ma faʻaleleia le maualuga o le vevela o le faʻamaʻiina o meatotino.