Kosi volframovega silicida

Volframov silicid WSi2 se uporablja kot material za električni udar v mikroelektroniki, ranžiranju na polisilicijevih žicah, antioksidacijskih prevlekah in upornostnih prevlekah žice. Volframov silicid se uporablja kot kontaktni material v mikroelektroniki z upornostjo 60-80 μΩcm. Nastane pri 1000°C. Običajno se uporablja kot shunt za polisilicijeve linije za povečanje njegove prevodnosti in hitrosti signala. Plast volframovega silicida je mogoče pripraviti s kemičnim naparjevanjem, kot je naparjevanje. Uporabite monosilan ali diklorosilan in volframov heksafluorid kot surovinski plin. Naneseni film je nestehiometričen in zahteva žarjenje, da se spremeni v bolj prevodno stehiometrično obliko.

Volframov silicid lahko nadomesti prejšnji volframov film. Volframov silicid se uporablja tudi kot pregradna plast med silicijem in drugimi kovinami.

Volframov silicid je zelo dragocen tudi v mikroelektromehanskih sistemih, med katerimi se volframov silicid uporablja predvsem kot tanek film za izdelavo mikrovezij. V ta namen lahko film volframovega silicida plazemsko jedkamo na primer s silicidom.

Podjetje Rich Special Materials je specializirano za izdelavo tarč za razprševanje in lahko proizvaja volframov silicidkosovpo specifikacijah strank. Za več informacij nas kontaktirajte.