Polisilicij je pomemben ciljni material za razprševanje. Uporaba metode magnetronskega razprševanja za pripravo SiO2 in drugih tankih filmov lahko izboljša optično, dielektrično in korozijsko odpornost materiala matrike, kar se pogosto uporablja v industriji na dotik, optiki in drugih industrijah.
Postopek ulivanja dolgih kristalov je postopno uresničevanje usmerjenega strjevanja tekočega silicija od spodaj navzgor z natančnim nadzorom temperature grelnika v vročem polju peči za ingote in odvajanja toplote toplotnoizolacijskega materiala ter hitrost strjevanja dolgih kristalov je 0,8 ~ 1,2 cm/h. Hkrati je mogoče v procesu usmerjenega strjevanja uresničiti segregacijski učinek kovinskih elementov v silicijevih materialih, večino kovinskih elementov je mogoče očistiti in oblikovati enotno strukturo polikristalnega silicijevega zrna.
Polisilicij za litje je treba v proizvodnem procesu tudi namerno dopirati, da se spremeni koncentracija akceptorskih nečistoč v silicijevi talini. Glavni dopant p-tipa litega polisilicija v industriji je silicijeva borova glavna zlitina, v kateri je vsebnost bora približno 0,025 %. Količina dopinga je določena s ciljno upornostjo silicijeve rezine. Optimalna upornost je 0,02 ~ 0,05 Ω • cm, ustrezna koncentracija bora pa je približno 2 × 1014 cm-3。 Vendar pa je segregacijski koeficient bora v siliciju 0,8, kar bo pokazalo določen učinek segregacije v procesu usmerjenega strjevanja, tj. je element bora razporejen v gradientu v navpični smeri ingota in upornost postopoma pada od dna do vrha ingota.
Čas objave: 26. julij 2022