Cieľ má mnoho účinkov a priestor na rozvoj trhu je veľký. Je to veľmi užitočné v mnohých oblastiach. Takmer všetky nové naprašovacie zariadenia používajú silné magnety na špirálové elektróny na urýchlenie ionizácie argónu okolo cieľa, čo vedie k zvýšeniu pravdepodobnosti kolízie medzi terčom a argónovými iónmi. Teraz sa pozrime na úlohu rozprašovacieho terča vo vákuovom poťahovaní.
Zlepšite rýchlosť rozprašovania. Vo všeobecnosti sa jednosmerné naprašovanie používa na pokovovanie, zatiaľ čo vysokofrekvenčné naprašovanie sa používa na nevodivé keramické magnetické materiály. Základným princípom je použitie žeravého výboja na zasiahnutie argónových (AR) iónov na povrchu terča vo vákuu a katióny v plazme sa zrýchlia, aby sa vrhli na negatívny povrch elektródy ako rozstrekovaný materiál. Tento náraz spôsobí, že materiál terča vyletí a uloží sa na substrát za vzniku filmu.
Vo všeobecnosti existuje niekoľko charakteristík nanášania filmu procesom naprašovania: (1) kov, zliatina alebo izolant môžu byť vyrobené z filmu.
(2) Za vhodných podmienok nastavenia môže byť film s rovnakým zložením vyrobený z viacerých a neusporiadaných cieľov.
(3) Zmes alebo zlúčeninu cieľového materiálu a molekúl plynu možno vyrobiť pridaním kyslíka alebo iných aktívnych plynov do atmosféry výboja.
(4) Cieľový vstupný prúd a čas rozprašovania je možné ovládať a je ľahké získať vysoko presnú hrúbku filmu.
(5) V porovnaní s inými procesmi je vhodný na výrobu veľkoplošných jednotných fólií.
(6) Naprašované častice sú takmer neovplyvnené gravitáciou a polohy terča a substrátu môžu byť usporiadané voľne.
Čas odoslania: 17. mája 2022