Ti Sputtering Target ඉහළ සංශුද්ධතාවය තුනී පටල PVD ආලේපනය අභිරුචියෙන් සාදන ලදී
ටයිටේනියම්
වීඩියෝ
Titanium Sputtering Target විස්තරය
ටයිටේනියම් යනු Ti සංකේතය සහ පරමාණුක ක්‍රමාංක 22 සහිත රසායනික මූලද්‍රව්‍යයකි. එය රිදී පැහැයක් සහිත දිලිසෙන සංක්‍රාන්ති ලෝහයකි. එහි ද්රවාංකය (1660±10)℃, තාපාංකය 3287℃ වේ. එය සියලු වර්ගවල ක්ලෝරීන් රසායනික ද්රව්ය සඳහා සැහැල්ලු බර, ඉහළ දෘඪතාව, විඛාදන ප්රතිරෝධය ඇත.
ටයිටේනියම් මුහුදු ජලය මගින් විඛාදනයට ප්‍රතිරෝධී වන අතර එය ආම්ලික හා ක්ෂාරීය මාධ්‍ය දෙකෙහිම දිය විය හැක.
ටයිටේනියම් මිශ්‍ර ලෝහය අභ්‍යවකාශය, රසායනික ඉංජිනේරු විද්‍යාව, ඛනිජ තෙල්, වෛද්‍ය විද්‍යාව, ඉදිකිරීම් සහ අනෙකුත් ක්ෂේත්‍රවල අඩු ඝනත්වය, තාප සන්නායකතාවය සහ විශිෂ්ට විඛාදන ප්රතිරෝධය, පෑස්සුම් හැකියාව සහ ජෛව අනුකූලතාව වැනි කැපී පෙනෙන ගුණාංග සඳහා බහුලව භාවිතා වේ.
ටයිටේනියම් හයිඩ්‍රජන්, CH4 සහ Co2 වායූන් අවශෝෂණය කර ගත හැකි අතර එය අධික රික්තක සහ අතිශය ඉහළ රික්තක පද්ධතිවල බහුලව භාවිතා වේ. ටයිටේනියම් ඉසින ඉලක්කය LSI, VLSI සහ ULSI පරිපථ ජාලය හෝ බාධක ලෝහ ද්රව්ය නිෂ්පාදනය සඳහා භාවිතා කළ හැක.
Titanium Sputtering Target Packaging
අපගේ Titanium sputter ඉලක්කය පැහැදිලිව ටැග් කර ඇති අතර කාර්යක්ෂම හඳුනාගැනීම් සහ තත්ත්ව පාලනය සහතික කිරීම සඳහා බාහිරව ලේබල් කර ඇත. ගබඩා කිරීමේදී හෝ ප්‍රවාහනයේදී සිදුවිය හැකි හානිය වළක්වා ගැනීමට දැඩි සැලකිල්ලක් දක්වයි.
සම්බන්ධතා ලබා ගන්න
RSM හි Titanium sputtering ඉලක්ක අතිශය ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් සහ ඒකාකාරී වේ. ඒවා විවිධ ආකාරවලින්, සංශුද්ධතාවයෙන්, ප්රමාණවලින් සහ මිල ගණන් වලින් ලබා ගත හැකිය. පුස් ආලේපනය, සැරසිලි, මෝටර් රථ කොටස්, අඩු-ඊ වීදුරු, අර්ධ සන්නායක ඒකාබද්ධ පරිපථය, තුනී පටල සඳහා භාවිතා කිරීම සඳහා විශිෂ්ට කාර්ය සාධනයක් මෙන්ම හැකි ඉහළම ඝනත්වය සහ හැකි කුඩාම සාමාන්‍ය ධාන්ය ප්‍රමාණයන් සහිත ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් තුනී පටල ආලේපන ද්රව්ය නිෂ්පාදනය කිරීමට අපි විශේෂීකරණය කරමු. ප්රතිරෝධය, ග්‍රැෆික් සංදර්ශකය, අභ්‍යවකාශය, චුම්බක පටිගත කිරීම, ස්පර්ශය තිරය, තුනී පටල සූර්ය බැටරි සහ අනෙකුත් භෞතික වාෂ්ප තැන්පත් (PVD) යෙදුම්. ලැයිස්තුගත කර නොමැති ඉසින ඉලක්ක සහ අනෙකුත් තැන්පත් ද්රව්ය පිළිබඳ වත්මන් මිල ගණන් සඳහා කරුණාකර අපට විමසීමක් එවන්න.
