තොග NiV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating අභිරුචියෙන් සාදන ලද නිෂ්පාදකයා සහ සැපයුම්කරු

නිකල් වැනේඩියම්

NiV Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom made Featured Image

කෙටි විස්තරය:

ප්රවර්ගය	ඇලෝයි ස්පුටරින් ඉලක්කය
රසායනික සූත්රය	NiV
සංයුතිය	නිකල් වැනේඩියම්
පිරිසිදුකම	99.9%, 99.95%, 99.99%
හැඩය	තහඩු, තීරු ඉලක්ක, චාප කැතෝඩ, අභිරුචි-සාදන ලද
නිෂ්පාදන ක්රියාවලිය	රික්ත දියවීම
ලබා ගත හැකි ප්රමාණය	L≤4000mm,W≤350mm

අපට විද්‍යුත් තැපෑල එවන්න

නිෂ්පාදන විස්තර

නිෂ්පාදන ටැග්

නිකල් වැනේඩියම් ස්පුටරින් ඉලක්ක විස්තරය

සංයුක්ත පරිපථ ස්ථරයේ තැන්පත් කිරීමේදී රත්‍රන් බොහෝ විට යෙදේ, නමුත් රත්‍රන් සිලිකන් සමඟ මිශ්‍ර කළහොත් AuSi අඩු දියවන සංයෝගයක් සෑදී ඇති අතර එය විවිධ ස්ථර අතර ලිහිල් වීමට හේතු වේ. පිරිසිදු නිකල් ඇලවුම් ස්ථරය සඳහා හොඳ තේරීමක් වන අතර, පැතිරීම වැළැක්වීම සඳහා නිකල් සහ රන් ස්ථරය අතර බාධක ස්ථරයක් ද අවශ්‍ය වේ. ඉහළ ද්‍රවාංකය සහ ඉහළ ඇම්පියර් ඝණත්වයේ ස්ථායී ධාරිතාවය සමඟ වැනේඩියම් මෙම අවශ්‍යතාවය මනාව සපුරාලිය හැකිය. එබැවින් නිකල්, වැනේඩියම් සහ රන් යනු ඒකාබද්ධ පරිපථ කර්මාන්තයේ සාමාන්‍යයෙන් යෙදෙන ද්‍රව්‍ය තුනකි. Nickel Vanadium Sputtering Target නිෂ්පාදනය කරනු ලබන්නේ උණු කළ නිකල් වලට වැනේඩියම් එකතු කිරීමෙනි. අඩු ෆෙරෝ චුම්භකත්වය සමඟ, ඉලෙක්ට්‍රොනික නිෂ්පාදනවල මැග්නට්‍රෝන ස්පුටර් කිරීම සඳහා එය හොඳ තේරීමක් වන අතර එමඟින් නිකල් ස්ථරය සහ වැනේඩියම් ස්ථරය එකවර නිපදවිය හැකිය.

Ni-7V wt% අපිරිසිදු අන්තර්ගතය

පිරිසිදුකම	ප්රධාන සංරචකය(wt%)	අපිරිසිදු රසායනික ද්රව්ය(≤ppm)							සමස්තයක් වශයෙන් අපිරිසිදුකම(≤ppm)
	V	Fe	Al	Si	C	N	O	S
99.99 කි	7± 0.5	20	30	20	100	30	100	20	100
99.95 කි	7± 0.5	200	200	200	100	100	200	50	500
99.9	7± 0.5	300	300	300	100	100	200	50	500

Nickel Vanadium Sputtering Target Packaging

අපගේ Nickel Vanadium sputter ඉලක්කය කාර්යක්ෂමව හඳුනා ගැනීම සහ තත්ත්ව පාලනය සහතික කිරීම සඳහා පැහැදිලිව ටැග් කර බාහිරව ලේබල් කර ඇත. ගබඩා කිරීමේදී හෝ ප්‍රවාහනයේදී සිදුවිය හැකි හානිය වළක්වා ගැනීමට දැඩි සැලකිල්ලක් දක්වයි.

සම්බන්ධතා ලබා ගන්න

RSM හි නිකල් වැනේඩියම් ඉසින ඉලක්ක අතිශයින් ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් සහ ඒකාකාරී වේ. ඒවා විවිධ ආකාරවලින්, සංශුද්ධතාවයෙන්, ප්රමාණවලින් සහ මිල ගණන් වලින් ලබා ගත හැකිය. පුස් ආලේපනය, සැරසිලි, මෝටර් රථ කොටස්, අඩු-ඊ වීදුරු, අර්ධ සන්නායක ඒකාබද්ධ පරිපථය, තුනී පටල සඳහා භාවිතා කිරීම සඳහා විශිෂ්ට කාර්ය සාධනයක් මෙන්ම හැකි ඉහළම ඝනත්වය සහ හැකි කුඩාම සාමාන්‍ය ධාන්ය ප්‍රමාණයන් සහිත ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් තුනී පටල ආලේපන ද්‍රව්‍ය නිෂ්පාදනය කිරීමට අපි විශේෂීකරණය කරමු. ප්‍රතිරෝධය, ග්‍රැෆික් සංදර්ශකය, අභ්‍යවකාශය, චුම්බක පටිගත කිරීම, ස්පර්ශය තිරය, තුනී පටල සූර්ය බැටරි සහ අනෙකුත් භෞතික වාෂ්ප තැන්පත් (PVD) යෙදුම්. ලැයිස්තුගත කර නොමැති ඉසින ඉලක්ක සහ අනෙකුත් තැන්පත් ද්‍රව්‍ය පිළිබඳ වත්මන් මිල ගණන් සඳහා කරුණාකර අපට විමසීමක් එවන්න.

පෙර: WCu Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom made

ඊළඟ: NiCr Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom made