සමහර පාරිභෝගිකයින් සිලිකන් ඉසින ඉලක්ක ගැන විමසූහ. දැන්, RSM තාක්ෂණ දෙපාර්තමේන්තුවේ සගයන් ඔබ සඳහා සිලිකන් ඉසින ඉලක්ක විශ්ලේෂණය කරනු ඇත.
සිලිකන් ස්පුටරින් ඉලක්කය සෑදී ඇත්තේ සිලිකන් ඉන්ගෝට් වලින් ලෝහ ඉසීමෙනි. විද්‍යුත් ආලේපනය, ඉසීම සහ වාෂ්ප තැන්පත් කිරීම ඇතුළු විවිධ ක්‍රියාවලි සහ ක්‍රම මගින් ඉලක්කය නිෂ්පාදනය කළ හැක. කැමති ප්‍රතිමූර්තියන් අපේක්ෂිත මතුපිට තත්ත්‍වයන් සාක්ෂාත් කර ගැනීම සඳහා අමතර පිරිසිදු කිරීමේ සහ කැටයම් කිරීමේ ක්‍රියාවලි තවදුරටත් සපයයි. නිශ්පාදිත ඉලක්කය angstroms 500 ට වඩා අඩු රළුබවක් සහ සාපේක්ෂ වේගවත් දැවෙන වේගයක් සහිතව, ඉතා ඉහල පරාවර්තක වේ. සිලිකන් ඉලක්කය විසින් සකස් කරන ලද චිත්රපටය අඩු අංශු සංඛ්යාවක් ඇත.
සිලිකන් පාදක ද්‍රව්‍ය මත තුනී පටල තැන්පත් කිරීමට සිලිකන් ඉසින ඉලක්කය භාවිතා කරයි. ඒවා සංදර්ශක, අර්ධ සන්නායක, දෘශ්‍ය, දෘශ්‍ය සන්නිවේදනය සහ වීදුරු ආලේපන යෙදුම්වල බහුලව භාවිතා වේ. අධි තාක්‍ෂණික සංරචක කැටයම් කිරීම සඳහා ද ඒවා සුදුසු ය. N-type silicon sputtering targets විවිධ අරමුණු සඳහා භාවිතා කළ හැක. එය ඉලෙක්ට්‍රොනික, සූර්ය කෝෂ, අර්ධ සන්නායක සහ සංදර්ශක ඇතුළු බොහෝ ක්ෂේත්‍ර සඳහා අදාළ වේ.
සිලිකන් ඉසින ඉලක්කය යනු මතුපිට ද්‍රව්‍ය තැන්පත් කිරීම සඳහා භාවිතා කරන ස්පුටරින් උපාංගයකි. සාමාන්යයෙන්, එය සිලිකන් පරමාණු වලින් සමන්විත වේ. ස්පුටර් කිරීමේ ක්‍රියාවලියට නිශ්චිත ද්‍රව්‍ය ප්‍රමාණයක් අවශ්‍ය වේ, එය විශාල අභියෝගයක් විය හැකිය. සිලිකන් මත පදනම් වූ සංරචක සෑදීමට ඇති එකම මාර්ගය වන්නේ කදිම ඉසින උපකරණ භාවිතා කිරීමයි. සිලිකන් ඉසින ඉලක්කය ඉසින ක්රියාවලියේදී භාවිතා නොකරන බව සඳහන් කිරීම වටී.
පසු කාලය: ඔක්තෝබර්-24-2022