විවිධ වෘත්තීන්හි ඉලක්ක ද්‍රව්‍ය පුළුල් ලෙස භාවිතා කිරීම ඉලක්ක ද්‍රව්‍ය සඳහා ඇති ඉල්ලුම ඉහළ සහ ඉහළ කරයි. පසුව එන අපි කරන්නෙමු කෙටියෙන් හඳුන්වා දෙන්න ඔබ ඉලක්කයේ මූලික ක්රියාකාරී අවශ්යතා මොනවාද, hoping ඔබට උදව් කිරීමට.
සංශුද්ධතාවය: ඉලක්කයේ ප්‍රාථමික ක්රියාකාරී දර්ශක වලින් එකක් වන්නේ සංශුද්ධතාවයයි, මන්ද ඉලක්කයේ සංශුද්ධතාවය චිත්රපටයේ ක්‍රියාකාරිත්වයට විශාල බලපෑමක් ඇති කරයි. නමුත් ප්රායෝගිකව, ඉලක්ක ද්රව්යයේ සංශුද්ධතාවය සමාන නොවේ. උදාහරණයක් ලෙස, ක්ෂුද්‍ර ඉලෙක්ට්‍රොනික් වෘත්තියේ වේගවත් වර්ධනයත් සමඟ සිලිකන් වේෆරයේ ප්‍රමාණය 6 ", 8 " සිට 12″ දක්වා වර්ධනය වී ඇති අතර රැහැන් පළල 0.5um සිට 0.25um, 0.18um සහ 0.13um දක්වා අඩු වී ඇත. වරක් ඉලක්ක සංශුද්ධතාවයෙන් 99.995% ට 0.35UMIC හි තාක්ෂණික අවශ්යතා සපුරාලිය හැක. 0.18um රේඛාවක් සැකසීමට ඉලක්ක ද්රව්යයේ 99.999% හෝ 99.9999% සංශුද්ධතාවය අවශ්ය වේ.
ඝනත්වය: ඉලක්කගත ඝනයේ සිදුරු අඩු කිරීම සහ ස්පුටරින් චිත්රපටයේ ක්රියාකාරිත්වය වැඩි දියුණු කිරීම සඳහා, ඉලක්කය සාමාන්යයෙන් ඉහළ ඝනත්වයක් අවශ්ය වේ. ඉලක්ක ඝනත්වය sputtering අනුපාතය පමණක් නොව, චිත්රපටවල විද්යුත් හා දෘශ්ය ලක්ෂණ ද බලපායි. ඉලක්ක ඝනත්වය වැඩි වන තරමට චිත්රපටයේ ක්රියාකාරිත්වය වඩා හොඳය.ඊට අමතරව, ඉසිලීමේදී තාප ආතතියට වඩා හොඳින් ඔරොත්තු දීම සඳහා ඉලක්ක ද්රව්යයේ ඝනත්වය සහ ශක්තිය වැඩි කරන ලදී. ඝනත්වය ද ඉලක්කගත ද්රව්යවල වැදගත් ක්රියාකාරී දර්ශකවලින් එකකි.
අපිරිසිදු අන්තර්ගතය: ඉලක්කගත ඝනවල ඇති අපද්‍රව්‍ය සහ සිදුරුවල ඔක්සිජන් සහ ජල වාෂ්ප සමුච්චිත චිත්රපටවල මූලික දූෂණ ප්‍රභවයන් වේ. විවිධ අරමුණු සඳහා විවිධ ඉලක්ක ද්‍රව්‍ය විවිධ අපිරිසිදු අන්තර්ගතයන් සඳහා විවිධ අවශ්යතා ඇත. උදාහරණයක් ලෙස, අර්ධ සන්නායක කර්මාන්තයේ භාවිතා කරන පිරිසිදු ඇලුමිනියම් සහ ඇලුමිනියම් මිශ්ර ලෝහ ඉලක්ක ක්ෂාර ලෝහ අන්තර්ගතය සහ විකිරණශීලී මූලද්රව්ය අන්තර්ගතය සඳහා විශේෂ අවශ්යතා ඇත.
පසු කාලය: ජූනි-06-2022