අපගේ වෙබ් අඩවි වෙත සාදරයෙන් පිළිගනිමු!
පුවත්
-
ඉහළ සංශුද්ධතාවයේ ටංස්ටන් ඉලක්කය සකස් කිරීමේ තාක්ෂණය සහ යෙදීම
ඉහළ උෂ්ණත්ව ස්ථායීතාවය, ඉහළ ඉලෙක්ට්‍රෝන සංක්‍රමණ ප්‍රතිරෝධය සහ පරාවර්තක ටංස්ටන් සහ ටංස්ටන් මිශ්ර ලෝහවල ඉහළ ඉලෙක්ට්‍රෝන විමෝචන සංගුණකය හේතුවෙන්, අධි සංශුද්ධතාවයෙන් යුත් ටංස්ටන් සහ ටංස්ටන් මිශ්ර ලෝහ ඉලක්ක ප්රධාන වශයෙන් ගේට්ටු ඉලෙක්ට්‍රෝඩ, සම්බන්ධතා රැහැන්, විසරණ බාධක නිෂ්පාදනය සඳහා යොදා ගනී.තවත් කියවන්න -
ඉහළ එන්ට්‍රොපි මිශ්ර ලෝහ ඉසින ඉලක්කය
ඉහළ එන්ට්‍රොපි මිශ්ර ලෝහය (HEA) යනු මෑත වසරවලදී නිපදවන ලද නව ලෝහ මිශ්ර ලෝහයකි. එහි සංයුතිය ලෝහ මූලද්රව්ය පහක් හෝ වැඩි ගණනකින් සමන්විත වේ. HEA යනු ප්රධාන මූලද්රව්ය දෙකක් හෝ වැඩි ගණනක් අඩංගු ලෝහ මිශ්ර ලෝහ වන බහු-ප්‍රාථමික ලෝහ මිශ්ර ලෝහවල (MPEA) උප කුලකයකි. MPEA මෙන්ම, HEA ද එහි සුපිරි සඳහා ප්‍රසිද්ධය...තවත් කියවන්න -
Sputtering ඉලක්කය - නිකල් ක්රෝමියම් ඉලක්කය
ඉලක්කය තුනී පටල සකස් කිරීම සඳහා ප්රධාන මූලික ද්රව්යය වේ. වර්තමානයේ, බහුලව භාවිතා වන ඉලක්ක සකස් කිරීමේ සහ සැකසීමේ ක්‍රමවලට ප්රධාන වශයෙන් කුඩු ලෝහ තාක්ෂණය සහ සාම්ප්‍රදායික මිශ්ර ලෝහ උණු කිරීමේ තාක්ෂණය ඇතුළත් වන අතර, අපි වඩාත් තාක්ෂණික හා සාපේක්ෂව නව රික්ත ස්මෙල්ටි භාවිතා කරමු.තවත් කියවන්න -
Ni-Cr-Al-Y sputtering ඉලක්කය
නව මිශ්ර ලෝහ වර්ගයක් ලෙස, නිකල්-ක්රෝමියම්-ඇලුමිනියම්-යිට්‍රියම් මිශ්ර ලෝහය ගුවන් සේවා සහ අභ්‍යවකාශය, මෝටර් රථ සහ නැව්වල ගෑස් ටර්බයින් තල, අධි පීඩන ටර්බයින් ෂෙල් වෙඩි වැනි උණුසුම් කොටස්වල මතුපිට ආලේපන ද්‍රව්‍යයක් ලෙස බහුලව භාවිතා වී ඇත. යනාදිය එහි හොඳ තාප ප්‍රතිරෝධය නිසා c...තවත් කියවන්න -
කාබන් (පයිරොලිටික් ග්රැෆයිට්) ඉලක්කය හඳුන්වාදීම සහ යෙදීම
මිනිරන් ඉලක්ක සමස්ථිතික මිනිරන් සහ පයිරොලිටික් මිනිරන් ලෙස බෙදා ඇත. RSM හි සංස්කාරක විසින් pyrolytic මිනිරන් විස්තරාත්මකව හඳුන්වා දෙනු ඇත. Pyrolytic මිනිරන් යනු නව කාබන් ද්‍රව්‍යයකි. එය රසායනික වාෂ්ප මගින් තැන්පත් වන ඉහළ ස්ඵටික දිශානතියක් සහිත පයිෙරොලිටික් කාබන් ...තවත් කියවන්න -
ටංස්ටන් කාබයිඩ් ස්පුටරින් ඉලක්ක
ටංස්ටන් කාබයිඩ් (රසායනික සූත්‍රය: WC) යනු ටංස්ටන් සහ කාබන් පරමාණුවල සමාන කොටස් අඩංගු රසායනික සංයෝගයකි (හරියටම, කාබයිඩ්). එහි මූලික ස්වරූපයෙන්, ටංස්ටන් කාබයිඩ් සිහින් අළු කුඩු වේ, නමුත් කාර්මික යන්ත්‍රෝපකරණ, කැපුම් මෙවලම සඳහා භාවිතා කිරීම සඳහා එය තද කර හැඩයට සෑදිය හැකිය.තවත් කියවන්න -
Iron Sputtering Target හඳුන්වාදීම සහ යෙදීම
මෑතකදී, පාරිභෝගිකයාට නිෂ්පාදනයේ වයින් රතු පාට කිරීමට අවශ්‍ය විය. ඔහු RSM හි කාර්මික ශිල්පියාගෙන් පිරිසිදු යකඩ ඉසීමේ ඉලක්කය ගැන විමසීය. දැන් අපි ඔබ සමඟ යකඩ ඉසින ඉලක්කය පිළිබඳ දැනුමක් බෙදා ගනිමු. යකඩ ඉසින ඉලක්කය ඉහළ සංශුද්ධ යකඩ ලෝහයකින් සමන්විත ලෝහ ඝන ඉලක්කයකි. යකඩ...තවත් කියවන්න -
AZO Sputtering Target යෙදුම
AZO sputtering ඉලක්ක ඇලුමිනියම් මාත්‍රණය කළ සින්ක් ඔක්සයිඩ් ඉසින ඉලක්ක ලෙසද හැඳින්වේ. ඇලුමිනියම් මාත්‍රණය කළ සින්ක් ඔක්සයිඩ් විනිවිද පෙනෙන සන්නායක ඔක්සයිඩ් වේ. මෙම ඔක්සයිඩ් ජලයේ දිය නොවන නමුත් තාප ස්ථායී වේ. AZO sputtering ඉලක්ක සාමාන්‍යයෙන් තුනී පටල තැන්පත් කිරීම සඳහා භාවිතා වේ. එබැවින් කුමන ආකාරයේ o...තවත් කියවන්න -
ඉහළ එන්ට්‍රොපි මිශ්ර ලෝහ නිෂ්පාදන ක්‍රමය
මෑතකදී, බොහෝ පාරිභෝගිකයින් ඉහළ එන්ට්‍රොපි මිශ්ර ලෝහය ගැන විමසා ඇත. ඉහළ එන්ට්‍රොපි මිශ්ර ලෝහ නිෂ්පාදන ක්‍රමය කුමක්ද? දැන් අපි එය RSM හි සංස්කාරක විසින් ඔබ සමඟ බෙදා ගනිමු. ඉහළ එන්ට්‍රොපි මිශ්ර ලෝහ නිෂ්පාදන ක්‍රම ප්රධාන ආකාර තුනකට බෙදිය හැකිය: ද්‍රව මිශ්ර කිරීම, ඝන මිශ්‍රණය...තවත් කියවන්න -
අර්ධ සන්නායක චිප් ස්පුටරින් ඉලක්කය යෙදීම
Rich Special Material Co., Ltd. හට අර්ධ සන්නායක කර්මාන්තය සඳහා අධි-පිරිසිදු ඇලුමිනියම් ඉසින ඉලක්ක, තඹ ඉසින ඉලක්ක, ටැන්ටලම් ඉසින ඉලක්ක, ටයිටේනියම් ඉසින ඉලක්ක ආදිය නිෂ්පාදනය කළ හැක. අර්ධ සන්නායක චිප්ස් සඳහා ඉහළ තාක්ෂණික අවශ්‍යතා සහ ඉහළ මිල ගණන් ඇත.තවත් කියවන්න -
ඇලුමිනියම් ස්කැන්ඩියම් මිශ්ර ලෝහය
චිත්‍රපට පාදක piezoelectric MEMS (pMEMS) සංවේදකය සහ රේඩියෝ සංඛ්‍යාත (RF) පෙරහන් සංරචක කර්මාන්තයට සහාය වීම සඳහා, සීමාසහිත Rich Special Material Co., විසින් නිෂ්පාදනය කරන ලද ඇලුමිනියම් ස්කැන්ඩියම් මිශ්ර ලෝහය ස්කැන්ඩියම් මාත්‍රණය කරන ලද ඇලුමිනියම් නයිට්‍රයිඩ් පටලවල ප්‍රතික්‍රියාශීලී තැන්පත් කිරීම සඳහා විශේෂයෙන් භාවිතා වේ. . ත...තවත් කියවන්න -
ITO sputtering ඉලක්ක යෙදීම
අප කවුරුත් දන්නා පරිදි, ඉලක්ක ද්‍රව්‍ය ඉසිලීමේ තාක්ෂණික සංවර්ධන ප්‍රවණතාවය යෙදුම් කර්මාන්තයේ තුනී පටල තාක්‍ෂණයේ සංවර්ධන ප්‍රවණතාවයට සමීපව සම්බන්ධ වේ. යෙදුම් කර්මාන්තයේ චිත්‍රපට නිෂ්පාදන හෝ සංරචකවල තාක්ෂණය වැඩිදියුණු වන විට, ඉලක්ක තාක්ෂණය shou...තවත් කියවන්න