ඉලෙක්ට්‍රොනික කර්මාන්තය, සූර්ය කෝෂ, වීදුරු ආලේපනය සහ අනෙකුත් ක්ෂේත්‍රවල ඒවායේ ආවේණික වාසි නිසා ඉසින ලද molybdenum ඉලක්ක බහුලව භාවිතා වී ඇත. කුඩාකරණය, ඒකාබද්ධ කිරීම, ඩිජිටල්කරණය සහ බුද්ධිය තුළ නවීන තාක්‍ෂණයේ වේගවත් සංවර්ධනයත් සමඟ, molybdenum ඉලක්ක භාවිතය අඛණ්ඩව වැඩි වන අතර, ඒවා සඳහා ගුණාත්මක අවශ්‍යතා ද වඩ වඩාත් ඉහළ යනු ඇත. එබැවින් අපි molybdenum ඉලක්කවල උපයෝගිතා අනුපාතය වැඩිදියුණු කිරීමට ක්රම සොයා ගත යුතුය. දැන්, RSM හි සංස්කාරක විසින් සෑම කෙනෙකුටම sputtering molybdenum ඉලක්ක භාවිතා කිරීමේ අනුපාතය වැඩි දියුණු කිරීම සඳහා ක්රම කිහිපයක් හඳුන්වා දෙනු ඇත.
1. ආපසු පැත්තේ විද්යුත් චුම්භක දඟර එකතු කරන්න
ඉසින ලද molybdenum ඉලක්කයේ උපයෝගිතා අනුපාතය වැඩි දියුණු කිරීම සඳහා, ප්ලැනර් Magnetron sputtering molybdenum ඉලක්කයේ පිටුපස පැත්තේ විද්යුත් චුම්භක දඟරයක් එකතු කළ හැකි අතර, molybdenum ඉලක්කයේ මතුපිට චුම්බක ක්ෂේත්‍රය ධාරාව වැඩි කිරීමෙන් වැඩි කළ හැක. විද්යුත් චුම්භක දඟරය, මොලිබ්ඩිනම් ඉලක්කයේ උපයෝගිතා අනුපාතය වැඩි දියුණු කිරීම සඳහා.
2. නල භ්‍රමණය වන ඉලක්ක ද්‍රව්‍ය තෝරන්න
පැතලි ඉලක්ක සමඟ සසඳන විට, නල භ්‍රමණය වන ඉලක්ක ව්‍යුහයක් තෝරා ගැනීම එහි සැලකිය යුතු වාසි ඉස්මතු කරයි. සාමාන්‍යයෙන්, පැතලි ඉලක්කවල උපයෝගිතා අනුපාතය 30% සිට 50% දක්වා පමණක් වන අතර, නල භ්‍රමණය වන ඉලක්කවල උපයෝගිතා අනුපාතය 80% ඉක්මවිය හැක. තවද, භ්‍රමණය වන හිස් නළය Magnetron ඉසින ඉලක්කය භාවිතා කරන විට, ඉලක්කයට ස්ථාවර තීරු චුම්බක එකලස් කිරීම වටා සෑම විටම භ්‍රමණය විය හැකි බැවින්, එහි මතුපිට නැවත තැන්පත් වීමක් සිදු නොවනු ඇත, එබැවින් භ්‍රමණය වන ඉලක්කයේ ආයු කාලය සාමාන්‍යයෙන් 5 ගුණයකට වඩා වැඩි වේ. ගුවන් යානයේ ඉලක්කයට වඩා.
3. නව sputtering උපකරණ සමඟ ප්රතිස්ථාපනය කරන්න
ඉලක්ක ද්‍රව්‍යවල උපයෝගිතා අනුපාතය වැඩි දියුණු කිරීම සඳහා යතුර වන්නේ ඉසින උපකරණ ප්රතිස්ථාපනය සම්පූර්ණ කිරීමයි. molybdenum ඉසින ඉලක්ක ද්‍රව්‍ය ඉසින ක්‍රියාවලියේදී, හයිඩ්‍රජන් අයන මගින් පහර දීමෙන් පසු, රික්තක පරමාණුවලින් හයෙන් එකක් පමණ රික්තක කුටීර බිත්තියේ හෝ වරහන මත තැන්පත් වන අතර, රික්ත උපකරණ පිරිසිදු කිරීමේ පිරිවැය සහ අක්‍රිය කාලය වැඩි වේ. එබැවින් නව ඉසින උපකරණ ප්රතිස්ථාපනය කිරීම molybdenum ඉලක්ක ඉසිලීමේ ප්‍රයෝජන අනුපාතය වැඩි දියුණු කිරීමට උපකාරී වේ.
පසු කාලය: මැයි-24-2023