වාෂ්පීකරණ ආලේපනය සහ ස්පුටරින් ආලේපනය අතර වෙනස්කම්

අපි කවුරුත් දන්නා පරිදි, රික්ත ආලේපනයේදී බහුලව භාවිතා වන ක්‍රම වන්නේ රික්ත සම්ප්‍රේෂණය සහ අයන ස්පුටර් කිරීමයි. Transpiration coating සහ sputtering coating Many අතර වෙනස කුමක්ද?මිනිසුන් වැනි ප්‍රශ්න තිබේ. ට්‍රාන්ස්පිරේෂන් ආලේපනය සහ ස්පුටරින් ආලේපනය අතර වෙනස ඔබ සමඟ බෙදා ගනිමු

රික්ත සම්ප්‍රේෂණ පටලය යනු 10-2Pa ට නොඅඩු රික්ත උපාධියක් සහිත පරිසරයක ප්‍රතිරෝධක උණුසුම හෝ ඉලෙක්ට්‍රෝන කදම්භ සහ ලේසර් ෂෙල් වෙඩි තැබීම මගින් දත්ත ස්ථාවර උෂ්ණත්වයකට සම්ප්‍රේෂණය කිරීම සඳහා රත් කිරීමයි, එවිට අණු වල තාප කම්පන ශක්තිය හෝ දත්තවල ඇති පරමාණු පෘෂ්ඨයේ බන්ධන ශක්තිය ඉක්මවන අතර එමඟින් බොහෝ අණු හෝ පරමාණු සම්ප්‍රේෂණය වීම හෝ වැඩි වීම සහ ඒවා සෘජුව තැන්පත් වීම චිත්රපටයක් සෑදීමට උපස්ථරය. අයන ස්පුටරින් ආලේපනය කැතෝඩය ලෙස ඉලක්කයට බෝම්බ හෙලීමට විද්‍යුත් ක්ෂේත්‍රයේ බලපෑම යටතේ වායු විසර්ජනය මගින් ජනනය වන ධනාත්මක අයනවල ඉහළ ප්‍රතිනිර්මාණ චලනය භාවිතා කරයි, එවිට ඉලක්කයේ ඇති පරමාණු හෝ අණු ගැලවී ආලේපිත වැඩ කොටසෙහි මතුපිට තැන්පත් වේ. අවශ්ය චිත්රපටය.

රික්ත සම්ප්‍රේෂණ ආලේපනයේ බහුලව භාවිතා වන ක්‍රමය ප්‍රතිරෝධ තාපන ක්‍රමයයි. එහි වාසි වන්නේ තාපන ප්රභවයේ සරල ව්යුහය, අඩු පිරිවැය සහ පහසු මෙහෙයුමයි. එහි අවාසි වන්නේ එය පරාවර්තක ලෝහ සහ ඉහළ උෂ්ණත්ව ප්රතිරෝධී මාධ්ය සඳහා සුදුසු නොවේ. ඉලෙක්ට්‍රෝන කදම්භ උණුසුම සහ ලේසර් උණුසුම මගින් ප්‍රතිරෝධක උණුසුමෙහි අවාසි ජයගත හැක. ඉලෙක්ට්‍රෝන කදම්භ රත් කිරීමේදී, නාභිගත ඉලෙක්ට්‍රෝන කදම්භය ෂෙල් කරන ලද දත්ත සෘජුව රත් කිරීමට භාවිතා කරන අතර, දත්ත සම්ප්‍රේෂණය කිරීම සඳහා ඉලෙක්ට්‍රෝන කදම්භයේ චාලක ශක්තිය තාප ශක්තිය බවට පත්වේ. ලේසර් උණුසුම තාපන ප්‍රභවය ලෙස අධි බලැති ලේසර් භාවිතා කරයි, නමුත් අධි බලැති ලේසර්වල අධික පිරිවැය හේතුවෙන් එය භාවිතා කළ හැක්කේ පර්යේෂණාගාර කුඩා සංඛ්‍යාවක පමණි.

ස්පුටර් කිරීමේ කුසලතාව රික්ත සම්ප්‍රේෂණ කුසලතාවට වඩා වෙනස් ය. Sputtering යනු ඝන පරමාණු හෝ අණු මතුපිටින් විමෝචනය වන පරිදි ආරෝපිත අංශු ශරීරයේ මතුපිටට (ඉලක්කයට) බෝම්බ හෙලීමේ සංසිද්ධියයි. විමෝචනය වන අංශු බොහොමයක් පරමාණුක වන අතර එය බොහෝ විට ඉසින ලද පරමාණු ලෙස හැඳින්වේ. ෂෙල් වෙඩි තැබීමේ ඉලක්ක සඳහා භාවිතා කරන ස්පූටර් අංශු ඉලෙක්ට්‍රෝන, අයන හෝ උදාසීන අංශු විය හැක. අයන විද්‍යුත් ක්ෂේත්‍රය යටතේ අවශ්‍ය චාලක ශක්තිය ලබාගැනීමට පහසු නිසා අයන බොහෝ දුරට ෂෙල් වෙඩි අංශු ලෙස තෝරා ගැනේ.

ස්පුටරින් ක්‍රියාවලිය පදනම් වී ඇත්තේ දිලිසෙන විසර්ජනය මත ය, එනම් ස්පුටරින් අයන පැමිණෙන්නේ වායු විසර්ජනයෙනි. විවිධ sputtering කුසලතා විවිධ දිලිසෙන විසර්ජන ක්රම ඇත. DC ඩයෝඩ ස්පුටරින් DC ග්ලෝ විසර්ජනය භාවිතා කරයි; ට්‍රයිඩෝ ස්පුටරින් යනු උණුසුම් කැතෝඩය මගින් සහය දක්වන දිලිසෙන විසර්ජනයකි; RF sputtering RF glow discharge භාවිතා කරයි; Magnetron sputtering යනු වළයාකාර චුම්බක ක්ෂේත්‍රයක් මගින් පාලනය වන දිලිසෙන විසර්ජනයකි.

වැකුම් ට්රාන්ස්පිරේෂන් ආලේපනය සමඟ සසඳන විට, ස්පුටරින් ආලේපනය බොහෝ වාසි ඇත. කිසියම් ද්‍රව්‍යයක් ඉසිලිය හැකි නම්, විශේෂයෙන් ඉහළ ද්‍රවාංකය සහ අඩු වාෂ්ප පීඩනය සහිත මූලද්‍රව්‍ය සහ සංයෝග; ඉසින ලද චිත්රපටය සහ උපස්ථරය අතර ඇලවීම හොඳයි; ඉහළ චිත්රපට ඝනත්වය; චිත්රපටයේ ඝණකම පාලනය කළ හැකි අතර පුනරාවර්තන හැකියාව හොඳයි. අවාසිය නම් උපකරණ සංකීර්ණ වන අතර අධි වෝල්ටීයතා උපාංග අවශ්ය වේ.

මීට අමතරව, ට්‍රාන්ස්පිරේෂන් ක්‍රමය සහ ස්පුටර් කිරීමේ ක්‍රමයේ සංකලනය වන්නේ අයන තහඩු කිරීමයි. මෙම ක්‍රමයේ ඇති වාසි වන්නේ චිත්‍රපටය සහ උපස්ථරය අතර ශක්තිමත් ඇලීම, ඉහළ තැන්පත් වීමේ අනුපාතය සහ චිත්‍රපටයේ අධික ඝනත්වයයි.