CrW ඇලෝයි ස්පුටරින් ඉලක්කය ඉහළ සංශුද්ධතාවය තුනී පටල Pvd ආලේපනය අභිරුචියෙන් සාදා ඇත

ඉලක්ක සකස් කරනු ලබන්නේ ක්‍රෝනියම් සහ ටංස්ටන් කුඩු මිශ්‍ර කිරීම හෝ රික්ත උණු කිරීම සහ සම්පූර්ණ ඝනත්වයට සංයුක්ත කිරීම මගිනි. මෙලෙස සංයුක්ත කරන ලද ද්‍රව්‍ය විකල්ප වශයෙන් සින්ටර් කර පසුව අපේක්ෂිත ඉලක්ක හැඩයට සාදනු ලැබේ.

ක්‍රෝම් ටංස්ටන් ඉසින ඉලක්කයට ඉහළ සංශුද්ධතාවය, සමජාතීය ක්ෂුද්‍ර ව්‍යුහය, අධික ඝනත්වය සහ සියුම් ධාන්ය ප්‍රමාණය ඇත. එය HIP මගින් විශාල ප්‍රමාණයකට නිපදවිය හැක. Cr-W ආලේපනය එහි විඛාදන ප්‍රතිරෝධය, දෘඪතාව, පාර විද්‍යුත් ශක්තිය සහ අවම කපන ධාරා හේතුවෙන් කර්මාන්ත සහ යෙදුම් ගණනාවක් සඳහා පරිපූර්ණ වේ.

Rich Special Materials යනු Sputtering Target නිෂ්පාදකයෙකුට පාරිභෝගිකයන්ගේ පිරිවිතරයන්ට අනුව Chronium Tungsten Sputtering Materials නිෂ්පාදනය කළ හැකිය. වැඩි විස්තර සඳහා කරුණාකර අප හා සම්බන්ධ වන්න.