තොග AlCr ඇලෝයි ස්පුටරින් ඉලක්කය ඉහළ සංශුද්ධතාවය තුනී පටල Pvd ආලේපනය අභිරුචියෙන් සාදන ලද නිෂ්පාදකයා සහ සැපයුම්කරු

ඇලුමිනියම් ක්රෝමියම්

AlCr ඇලෝයි ස්පුටරින් ඉලක්කය ඉහළ සංශුද්ධතාවය තුනී පටල Pvd ආලේපනය අභිරුචියෙන් සාදන ලද විශේෂාංග රූපය

කෙටි විස්තරය:

ප්රවර්ගය	ඇලෝයි ස්පුටරින් ඉලක්කය
රසායනික සූත්රය	AlCr
සංයුතිය	ඇලුමිනියම් ක්රෝමියම්
පිරිසිදුකම	99.7%, 99.9%, 99.95%
හැඩය	තහඩු, තීරු ඉලක්ක, චාප කැතෝඩ, අභිරුචි-සාදන ලද
නිෂ්පාදන ක්රියාවලිය	PM
ලබා ගත හැකි ප්රමාණය	L≤2000mm,W≤200mm

අපට විද්‍යුත් තැපෑල එවන්න

නිෂ්පාදන විස්තර

නිෂ්පාදන ටැග්

ඇලුමිනියම් ක්‍රෝමියම් ස්පුටරින් ඉලක්ක විස්තරය

ඇලුමිනියම් ක්‍රෝමියම් ඉසින ඉලක්කයRich Special Materials වලින් යනු Al සහ Cr අඩංගු මිශ්‍ර ලෝහ ඉසින ද්‍රව්‍යයකි. මේ අනුව, දඇලුමිනියම් ක්‍රෝමියම් ස්පුටර් ඉලක්කයමෙම මූලද්රව්ය දෙකෙහි වාසි ඇත.

ඇලුමිනියම්, ඇලුමිනියම් ලෙසද හඳුන්වනු ලබන අතර, ඇලුමිනියම් ලතින් නාමයෙන් ආරම්භ වූ රසායනික මූලද්‍රව්‍යයක් වන අතර එය කහට ලුණු යන අර්ථය ඇති 'ඇලුමෙන්' වේ. එය මුලින්ම සඳහන් කළේ 1825 දී සහ HCÃ˜rsted විසින් නිරීක්ෂණය කරන ලදී. පසුව HCÃ˜rsted විසින් හුදකලා කිරීම සිදු කර නිවේදනය කරන ලදී. "අල්" යනු ඇලුමිනියම්වල කැනොනිකල් රසායනික සංකේතයයි. මූලද්‍රව්‍යවල ආවර්තිතා වගුවේ එහි පරමාණුක ක්‍රමාංකය p-බ්ලොක් එකට අයත් කාලපරිච්ඡේදය 3 සහ 13 කාණ්ඩයේ පිහිටීම සහිත 13 වේ. ඇලුමිනියම්වල සාපේක්ෂ පරමාණුක ස්කන්ධය 26.9815386(8) ඩෝල්ටන් වේ, එය අවිනිශ්චිතතාවය පෙන්නුම් කරන වරහන් තුළ ඇති අංකයයි.

ක්‍රෝමියම් යනු වර්ණය යන අර්ථය ඇති ග්‍රීක 'ක්‍රෝමා' වලින් ආරම්භ වූ රසායනික මූලද්‍රව්‍යයකි. එය ක්‍රිස්තු වර්ෂ 1 ට පෙර භාවිතා කරන ලද අතර ටෙරකොටා හමුදාව විසින් සොයා ගන්නා ලදී. "Cr" යනු ක්රෝමියම්වල කැනොනිකල් රසායනික සංකේතයයි. මූලද්‍රව්‍යවල ආවර්තිතා වගුවේ එහි පරමාණුක ක්‍රමාංකය 24 වන අතර එය d-බ්ලොක් එකට අයත් කාලපරිච්ඡේදය 4 සහ 6 කාණ්ඩයේ පිහිටීමකි. ක්‍රෝමියම්වල සාපේක්ෂ පරමාණුක ස්කන්ධය 51.9961(6) ඩෝල්ටන් වේ, එය වරහන් තුළ ඇති සංඛ්‍යාව අවිනිශ්චිත බව පෙන්නුම් කරයි.

අපගේ සාමාන්‍ය AlCr ඉලක්ක සහ ඒවායේ ගුණාංග

	Cr-70Al% දී	Cr-60Al% දී	Cr-50Al% දී
සංශුද්ධතාවය (%)	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95	99.8/99.9/99.95
ඝනත්වය(g/cm³)	3.7	4.35	4.55 කි
Gවැස්ස ප්රමාණය(µm)	100/50	100/50	100/50
ක්රියාවලිය	HIP	HIP	HIP

Rich Special Materials විසින් Sputtering Target නිෂ්පාදනය සඳහා විශේෂීකරණය වී ඇති අතර පාරිභෝගිකයන්ගේ පිරිවිතරයන්ට අනුව Chronium Aluminium Silicon Sputtering Materials නිෂ්පාදනය කළ හැක. අපගේ නිෂ්පාදන විශිෂ්ට යාන්ත්‍රික ගුණ, සමජාතීය ව්‍යුහය, වෙන් කිරීමකින් තොරව ඔප දැමූ මතුපිට, සිදුරු හෝ ඉරිතැලීම් වලින් සමන්විත වේ. වැඩි විස්තර සඳහා කරුණාකර අප හා සම්බන්ධ වන්න.

පෙර: CrAlSi මිශ්‍ර ලෝහ ඉසින ඉලක්කය ඉහළ සංශුද්ධතාවය තුනී පටල Pvd ආලේපනය අභිරුචියෙන් සාදා ඇත

ඊළඟ: CrAlMo ඇලෝයි ස්පුටරින් ඉලක්කය ඉහළ සංශුද්ධතාවයකින් යුත් තුනී පටල Pvd ආලේපනය අභිරුචියෙන් සාදා ඇත