اعليٰ پاڪائي يٽريم ٽارگيٽ - PVD ڪوٽنگ جو هڪ اهم رڪن

yttrium sputtering ٽارگيٽ ڇا آهي؟
Yttrium ٽارگيٽ خاص طور تي ڌاتو عنصر yttrium sputtering ٽارگيٽ ذريعي پيدا ڪيو ويندو آهي، ڇاڪاڻ ته yttrium عنصر (Y) نادر زمين جي ڌاتو عنصرن مان هڪ آهي، تنهن ڪري yttrium ٽارگيٽ پڻ نادر زمين ٽارگيٽ طور سڃاتو وڃي ٿو.
Yttrium مقصد خاص طور تي اسپٽرنگ جمع ڪرڻ واري ٽيڪنالاجي ۾ استعمال ٿيندا آهن. Sputtering deposition ٽيڪنالاجي جسماني وانپ جمع (PVD) ٽيڪنالاجي مان هڪ آهي، ۽ اليڪٽرانڪ پتلي فلم مواد جي تياري لاء مکيه ٽيڪنالاجي مان هڪ آهي. ٽارگيٽ جي مٿاڇري تي تيز توانائي واري ذرڙن (جهڙوڪ آئنز يا اليڪٽران بيم) سان بمباري ڪرڻ سان، ٽارگيٽ ايٽمس يا ماليڪيول ٻاهر نڪرندا آهن ۽ گهربل فلم يا ڪوٽنگ ٺاهڻ لاءِ ڪنهن ٻئي سبسٽريٽ تي جمع ڪيا ويندا آهن.
yttrium ٽارگيٽ صرف PVD ٽيڪنالاجي پاران تيار ڪيل گهربل فلم يا ڪوٽنگ جو ذريعو مواد آهي.

ڇا آهيجيyttrium sputtering ٽارگيٽ لاء استعمال ڪيو؟

Yttrium ھدف ڪيترن ئي شعبن ۾ ايپليڪيشنن جو وسيع رينج آھي، ھيٺ ڏنل مکيه ايپليڪيشن جا علائقا آھن:

1. سيميڪنڊڪٽر مواد: سيمي ڪنڊڪٽر انڊسٽري ۾، يٽريم ٽارگيٽ استعمال ڪيا ويندا آهن مخصوص تہه پيدا ڪرڻ لاءِ سيمي ڪنڊڪٽر مواد يا اليڪٽرانڪ جزا، جهڙوڪ ٽرانسسٽر، انٽيگريٽيڊ سرڪٽس وغيره.
2. آپٽيڪل ڪوٽنگ: آپٽڪس جي ميدان ۾، يٽريم هدفن کي استعمال ڪري سگهجي ٿو آپٽيڪل ڪوٽنگ تيار ڪرڻ لاءِ اعليٰ اضطراري انڊيڪس ۽ گھٽ اسڪيٽرنگ ريٽ سان، جيڪي آپٽيڪل ڊوائيسز جهڙوڪ ليزر ۽ آپٽيڪل فلٽر جي پيداوار ۾ اهم ڪردار ادا ڪن ٿيون.
3. پتلي فلم جمع ڪرڻ: يٽريم ٽارگيٽ پتلي فلم جمع ڪرڻ واري ٽيڪنالاجي ۾ هڪ اهم پوزيشن تي قبضو ڪري ٿو، ۽ ان جي اعلي پاڪائي، سٺي استحڪام، ۽ مخصوص جسماني ۽ ڪيميائي خاصيتون ان کي مختلف قسم جي پتلي فلم مواد تيار ڪرڻ لاء هڪ مثالي انتخاب بڻائي ٿو. اهي پتلي فلم مواد اپٽيڪل، اليڪٽرانڪ، مقناطيسي ۽ ٻين شعبن ۾ ايپليڪيشنن جو هڪ وسيع سلسلو آهي.
4. طبي ميدان: يٽريم ٽارگيٽ تابڪاري جي دوائن ۾ اهم ايپليڪيشنون آهن، جهڙوڪ ايڪس ريز ۽ گاما شعاعن جو ذريعو، تشخيصي تصويرن (جهڙوڪ CT اسڪين)، ۽ تابڪاري علاج. ان کان علاوه، yttrium جا مخصوص اسوٽوپس (جهڙوڪ Y-90) پڻ استعمال ڪري سگھجن ٿا ريڊيو دواسازي ۾ مخصوص ڪينسر جي ٽارگيٽيڊ علاج لاءِ.
5. نيوڪليئر انرجي انڊسٽري: ايٽمي ري ايڪٽرن ۾، يٽريم ٽارگٽس کي ليور مواد طور استعمال ڪيو ويندو آهي ايٽمي رد عمل جي رفتار ۽ استحڪام کي ڪنٽرول ڪرڻ لاءِ انهن جي بهترين نيوٽران جذب ڪرڻ جي صلاحيت جي ڪري.

نوٽ: جيئن ته مختلف ايپليڪيشن فيلڊز ۾ يٽريم هدفن جي ڪارڪردگي جون گهرجون مختلف ٿي سگهن ٿيون، مناسب حدف کي مخصوص ايپليڪيشن ۾ حقيقي صورتحال جي مطابق چونڊڻ جي ضرورت آهي. (جهڙوڪ مخصوص پاڪائي، ساخت جي تناسب، سائيز، شڪل، وغيره، مخصوص گهرجن مطابق ترتيب ڏنل.)

yttrium sputtering ٽارگيٽ جي پيداوار ٽيڪنالاجي؟

1. يٽريم پائوڊر تيار ڪريو 2. HIP، پريسنگ مولڊنگ 3. تيز گرمي پد جي سنٽرنگ 4. بعد ۾ پروسيسنگ (ڪٽڻ، پالش ڪرڻ وغيره) 5. صفائي ۽ پيڪنگ

نوٽ:مٿين بنيادي قدمن کان علاوه، مخصوص تياري جي طريقي ۽ ايپليڪيشن جي ضرورتن جي مطابق، يٽريم اسپٽرنگ ٽارگيٽ ۾ ٻيا مرحلا ۽ ٽيڪنالاجيون به شامل ٿي سگھن ٿيون، جهڙوڪ اسپٽرنگ جو طريقو، ويڪيوم ميٽنگ جو طريقو، وغيره. ٽارگيٽ مواد جي ڪارڪردگي ۽ ساخت.

ڪيئن هڪ اعلي معيار sputtering ٽارگيٽ چونڊي؟

هيٺ ڏنل فهرست ڏنل 7 اهم عنصرن کي چونڊڻ لاءِ اعليٰ معيار جي اسپٽرنگ جا مقصد:

1. هاءِجي پاڪائي

اعلي پاڪائي جي مقصدن ۾ بھترين مادي خاصيتون ۽ وڌيڪ مستحڪم جسماني ۽ ڪيميائي ملڪيت آھن، جيڪي اسپٽرنگ ڪوٽنگ جي معيار ۽ ڪارڪردگي کي يقيني بڻائڻ لاء ضروري آھن. مخصوص صفائي جي ضرورتن کي ايپليڪيشن جي منظرنامي جي مطابق طئي ڪيو وڃي، ڪجهه سادي ايپليڪيشن منظرنامن کي الٽرا اعلي پاڪائي جي پيروي ڪرڻ جي ضرورت ناهي، جيئن غير ضروري خرچن ۾ اضافو نه ٿئي. جيڪو توهان کي مناسب آهي اهو بهترين آهي.

2.استحڪام

ھدف جي استحڪام به برابر ضروري آھي، جيڪا اُڇلڻ دوران مادي نقصان يا ڪارڪردگيءَ جي ڦيرڦار کان بچائي سگھي. تنهن ڪري، چونڊ ۾، هڪ چونڊيو ته خاص علاج يا پيداوار جي سٺي استحڪام آهي.

3. سائيز ۽ شڪل

اسپٽرنگ ٽارگيٽ جي سائيز ۽ شڪل کي ڪوٽنگ جي سامان جي مخصوص ضرورتن جي مطابق چونڊيو وڃي ته جيئن مختلف اسپٽرنگ عملن ۽ پيداوار جي ضرورتن کي ترتيب ڏيو. انهي ڳالهه کي يقيني بڻائڻ ته ٽارگيٽ سامان سان ملائي وئي آهي اسپٽرنگ ڪارڪردگي وڌائي ۽ فضول گھٽائي ٿي.

4.کثافت

کثافت ھدف واري مواد جي معيار کي ماپڻ لاء اھم اشارن مان ھڪڙو آھي. هاء-کثافت ٽارگيٽ مواد بهتر sputtering اثر کي يقيني بڻائي سگهي ٿو. جڏهن چونڊيو، توهان کي حدف جي کثافت ڊيٽا تي ڌيان ڏيڻ گهرجي، ۽ اعلي کثافت سان مصنوعات چونڊڻ جي ڪوشش ڪريو.

5. پروسيسنگ جي درستگي

ٽارگيٽ جي پروسيسنگ جي درستگي پڻ انهن عنصرن مان هڪ آهي جنهن تي غور ڪرڻ جي ضرورت آهي. عام طور تي، ھدف جي پروسيسنگ جي درستگي کي ± 0.1mm جي اندر اندر ھجڻ جي ضرورت آھي ته جيئن اسپٽرنگ جي عمل جي استحڪام ۽ ڪوٽنگ جي معيار جي يونيفارم کي يقيني بڻائي سگهجي.

6.Special گهرجون

ڪجهه خاص ايپليڪيشن منظرنامي لاءِ، جيئن ته تيز روشنيءَ جي منتقلي جي ضرورت، ٽارگيٽ جي گھٽ جذب (آپٽيڪل ڪوٽنگ) يا اعليٰ چالکائي، حدف جي اعليٰ استحڪام (اليڪٽرانڪ فيلڊ) کي لاڳاپيل ٽارگيٽ جي مخصوص ضرورتن مطابق چونڊيو وڃي. قسم.

7. هڪ پيشه ور ڪاريگر يا سپلائر چونڊيو.