Кусочки силицида вольфрама

Силицид вольфрама WSi2 применяется в качестве электрошокового материала в микроэлектронике, шунтировании поликремниевых проводов, антиокислительных покрытиях и резистивных покрытиях проводов. Силицид вольфрама применяется в качестве контактного материала в микроэлектронике, с удельным сопротивлением 60-80мкОмсм. Образуется при температуре 1000°С. Обычно его используют в качестве шунта для поликремниевых линий для увеличения его проводимости и увеличения скорости сигнала. Слой силицида вольфрама может быть получен химическим осаждением из паровой фазы, например осаждением из паровой фазы. В качестве исходного газа используйте моносилан или дихлорсилан и гексафторид вольфрама. Осажденная пленка нестехиометрична и требует отжига для преобразования в более проводящую стехиометрическую форму.

Силицид вольфрама может заменить более раннюю вольфрамовую пленку. Силицид вольфрама также используется в качестве барьерного слоя между кремнием и другими металлами.

Силицид вольфрама также очень ценен в микроэлектромеханических системах, среди которых силицид вольфрама в основном используется в качестве тонкой пленки для изготовления микросхем. Для этого пленку силицида вольфрама можно подвергнуть плазменному травлению, например, с помощью силицида.

Компания Rich Special Materials специализируется на производстве мишеней для распыления и может производить силицид вольфрама.кускисогласно спецификациям Заказчиков. Для получения дополнительной информации, пожалуйста, свяжитесь с нами.