Многие пользователи, должно быть, слышали о продукте с мишенью для распыления, но принцип мишени для распыления должен быть относительно незнаком. Теперь редакторБогатый специальный материал (RSM) разделяет принципы магнетронного распыления мишени для распыления.
Между напыленным целевым электродом (катодом) и анодом добавляются ортогональное магнитное и электрическое поле, необходимый инертный газ (обычно газ Ar) заполняется в высоковакуумную камеру, постоянный магнит формирует магнитное поле 250 ~ 350 Гаусс на поверхности целевых данных, и ортогональное электромагнитное поле формируется с помощью высоковольтного электрического поля.
Под действием электрического поля газ Ar ионизируется на положительные ионы и электроны. К цели добавляется определенное отрицательное высокое напряжение. Воздействие магнитного поля на электроны, вылетающие из полюса мишени, и вероятность ионизации рабочего газа увеличиваются, образуя вблизи катода плазму высокой плотности. Под действием силы Лоренца ионы Ar ускоряются к поверхности мишени и бомбардируют поверхность мишени с очень высокой скоростью. Распыленные на мишени атомы следуют принципу преобразования импульса и улетают от поверхности мишени к подложке с высокой кинетической энергией. депонировать пленки.
Магнетронное распыление обычно делится на два типа: трибутарное распыление и радиочастотное распыление. Принцип работы оборудования для вторичного распыления прост, а его скорость при распылении металла также высока. Широко используется радиочастотное распыление. Помимо распыления проводящих материалов, он также может распылять непроводящие материалы. Одновременно он также проводит реактивное распыление для подготовки материалов из оксидов, нитридов, карбидов и других соединений. Если увеличить радиочастоту, это приведет к микроволновому плазменному распылению. В настоящее время широко используется микроволновое плазменное распыление электронного циклотронного резонанса (ЭЦР).
Время публикации: 31 мая 2022 г.