Благодаря высокой температурной стабильности, высокому сопротивлению миграции электронов и высокому коэффициенту эмиссии тугоплавких вольфрама и вольфрамовых сплавов мишени из вольфрама и вольфрамовых сплавов высокой чистоты в основном используются для изготовления затворных электродов, соединительных проводов, диффузионных барьерных слоев и т. д. из полупроводников. интегральные схемы и предъявляют высокие требования к чистоте, содержанию примесных элементов, плотности, размеру зерен и однородности зеренной структуры материалов. Теперь рассмотрим факторы, влияющие на получение вольфрамовой мишени высокой чистоты.
1、 Влияние температуры спекания
Процесс формирования зародыша вольфрамовой мишени обычно осуществляется методом холодного изостатического прессования. Вольфрамовое зерно будет расти в процессе спекания. Рост вольфрамового зерна заполнит зазор между границами зерен, тем самым улучшая плотность вольфрамовой мишени. С увеличением времени спекания рост плотности вольфрамовой мишени постепенно замедляется. Основная причина заключается в том, что после многократного спекания качество вольфрамовой мишени не сильно изменилось. Поскольку большая часть пустот на границе зерен заполнена кристаллами вольфрама, после каждого спекания общая скорость изменения размера вольфрамовой мишени была очень небольшой, что приводило к ограничению пространства для увеличения плотности вольфрамовой мишени. В процессе спекания выращенные вольфрамовые зерна заполняются пустотами, что приводит к более высокой плотности мишени с меньшим размером частиц.
2、 Влияние времени выдержки
При той же температуре спекания компактность вольфрамовой мишени улучшится за счет увеличения времени выдержки спекания. С увеличением времени выдержки размер зерна вольфрама будет увеличиваться, а с увеличением времени выдержки время роста размера зерна будет постепенно замедляться, а это означает, что увеличение времени выдержки также может улучшить производительность вольфрамовая мишень.
3、 Влияние броска на целевые свойства.
Чтобы улучшить плотность вольфрамового мишенного материала и получить структуру обработки вольфрамового мишенного материала, среднетемпературную прокатку вольфрамового мишенного материала необходимо проводить ниже температуры рекристаллизации. Если температура прокатки целевой заготовки высока, волокнистая структура целевой заготовки будет грубой, и наоборот. Когда степень теплой прокатки достигает более 95%. Хотя разница в структуре волокна, вызванная разным исходным зерном или разными температурами прокатки, будет устранена, внутренняя структура мишени будет формировать относительно однородную структуру волокна, поэтому чем выше скорость обработки теплой прокатки, тем лучше производительность мишени.
Время публикации: 15 февраля 2023 г.