Piese de siliciu de wolfram

Siliciura de wolfram WSi2 este utilizat ca material de șoc electric în microelectronice, manevrare pe fire de polisiliciu, acoperire antioxidare și acoperire de rezistență a firului. Siliciura de wolfram este folosit ca material de contact în microelectronică, cu o rezistivitate de 60-80μΩcm. Se formează la 1000°C. Este de obicei folosit ca șunt pentru liniile din polisiliciu pentru a-și crește conductibilitatea și a crește viteza semnalului. Stratul de siliciu de wolfram poate fi preparat prin depunere chimică de vapori, cum ar fi depunerea de vapori. Utilizați monosilan sau diclorosilan și hexafluorură de wolfram ca materie primă gazoasă. Pelicula depusă este nestoichiometrică și necesită recoacere pentru a fi transformată într-o formă stoechiometrică mai conductivă.

Siliciura de wolfram poate înlocui filmul de tungsten anterior. Siliciura de tungsten este, de asemenea, folosit ca strat de barieră între siliciu și alte metale.

Siliciura de wolfram este, de asemenea, foarte valoroasă în sistemele microelectromecanice, printre care siliciura de wolfram este folosit în principal ca peliculă subțire pentru fabricarea microcircuitelor. În acest scop, pelicula de siliciură de tungsten poate fi gravată cu plasmă folosind, de exemplu, siliciură.

Rich Special Materials este specializată în fabricarea țintei de pulverizare și ar putea produce siliciură de tungstenbucățiconform specificațiilor clienților. Pentru mai multe informații, vă rugăm să ne contactați.