Unii clienți au întrebat despre țintele de pulverizare cu siliciu. Acum, colegii de la Departamentul de Tehnologie RSM vor analiza țintele de pulverizare cu siliciu pentru tine.
Ținta de pulverizare cu siliciu este realizată prin pulverizarea metalului din lingoul de siliciu. Ținta poate fi fabricată prin diferite procese și metode, inclusiv galvanizare, pulverizare și depunere de vapori. Realizările preferate asigură în plus procese suplimentare de curățare și gravare pentru a obține condițiile de suprafață dorite. Ținta produsă este foarte reflectorizant, cu o rugozitate mai mică de 500 de angstromi și o viteză de ardere relativ rapidă. Filmul preparat de ținta de siliciu are un număr scăzut de particule.
Ținta de pulverizare cu siliciu este utilizată pentru a depune pelicule subțiri pe materiale pe bază de siliciu. Sunt utilizate în mod obișnuit în aplicații de afișare, semiconductor, optică, comunicații optice și acoperire cu sticlă. De asemenea, sunt potrivite pentru gravarea componentelor de înaltă tehnologie. Țintele de pulverizare cu siliciu de tip N pot fi utilizate în diferite scopuri. Este aplicabil în multe domenii, inclusiv în electronică, celule solare, semiconductori și afișaje.
Ținta de pulverizare cu siliciu este un accesoriu de pulverizare utilizat pentru depunerea materialelor pe suprafață. De obicei, este format din atomi de siliciu. Procesul de pulverizare necesită o cantitate precisă de material, ceea ce poate fi o mare provocare. Utilizarea echipamentului ideal de pulverizare este singura modalitate de a face componente pe bază de siliciu. Este de remarcat faptul că ținta de pulverizare cu siliciu nu este utilizată în procesul de pulverizare.
Ora postării: Oct-24-2022