Vânzare cu ridicata CrAlSi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Producător și Furnizor

Crom Aluminiu Siliciu

Țintă pentru pulverizare din aliaj CrAlSi, film subțire de înaltă puritate, acoperire Pvd, personalizată Imagine prezentată

Scurtă descriere:

Categorie	Țintă de pulverizare din aliaj
Formula chimică	CrAlSi
Compoziţie	Siliciu din aluminiu cromat
Puritate	99,9%，99,95%，99,99%
Formă	Plăci, ținte de coloană, catozi cu arc, personalizat
Procesul de producție	Topire în vid, PM
Dimensiune disponibila	L≤1000mm，W≤200mm

Trimiteți-ne un e-mail

Detaliu produs

Etichete de produs

Descrierea țintei pentru pulverizare cu siliciu din aluminiu și croniu

Fabricarea țintelor de pulverizare cu siliciu din aluminiu și croniu cuprinde următorii pași:
1.Topirea în vid a siliciului, aluminiului și cronului pentru a obține aliaje în trepte.
2. Măcinarea și amestecarea pulberii.
3. Tratament de presare izostatică la cald pentru a obține ținta de pulverizare din aliaj de crom Aluminiu siliciu.
Țintele de pulverizare cu siliciu din aluminiu și croniu sunt utilizate pe scară largă în sculele de tăiere și matrițe, datorită rezistenței sale la uzură și rezistenței la oxidare la temperaturi ridicate pentru a îmbunătăți performanța filmului.
O fază Si3N4 amorfă s-ar forma în timpul procesului de PVD a țintelor CrAlSi. Datorită încorporării fazei amorfe Si3N4, creșterea mărimii granulelor ar putea fi restrânsă și ar putea îmbunătăți proprietatea de rezistență la oxidare la temperatură înaltă.

Ambalaj țintă pentru pulverizare pulverizată cu croniu și aluminiu

Ținta noastră de pulverizare cu croniu și aluminiu siliciu este etichetată și etichetată în mod clar extern pentru a asigura o identificare eficientă și controlul calității. Se acordă mare grijă pentru a evita orice daune care ar putea fi cauzate în timpul depozitării sau transportului

Obțineți contact

Țintele de pulverizare cu siliciu și croniu aluminiu de la RSM sunt de o puritate ultra-înaltă și uniforme. Sunt disponibile în diferite forme, purități, dimensiuni și prețuri. Suntem specializați în producerea de materiale de acoperire cu peliculă subțire de înaltă puritate, cu performanțe excelente, precum și cu cea mai mare densitate posibilă și cea mai mică mărime medie de granulație posibilă pentru utilizare în acoperirea matrițelor, decorațiuni, piese de automobile, sticlă low-E, circuit integrat semiconductor, peliculă subțire. rezistență, afișaj grafic, aerospațial, înregistrare magnetică, ecran tactil, baterie solară cu film subțire și alți vapori fizici aplicații de depunere (PVD). Vă rugăm să ne trimiteți o întrebare pentru prețurile actuale pentru țintele de pulverizare și alte materiale de depunere care nu sunt enumerate.

Anterior: Acoperire Pvd cu peliculă subțire de înaltă puritate țintă de pulverizare din aliaj CrSi la comandă

Următorul: Țintă de pulverizare din aliaj AlCr, acoperire Pvd cu peliculă subțire de înaltă puritate, personalizat