Agora, cada vez mais usuários entendem os tipos de alvos esuas aplicações, mas a subdivisão pode não ser muito clara. Agora vamosEngenheiro RSM compartilhar com vocêalguma indução de alvos de pulverização catódica de magnetron.
Alvo de pulverização catódica: alvo de revestimento de pulverização catódica de metal, alvo de revestimento de pulverização catódica de liga, alvo de revestimento de pulverização catódica de cerâmica, alvo de pulverização catódica de cerâmica de boreto, alvo de pulverização catódica de cerâmica de carboneto, alvo de pulverização catódica de cerâmica de flúor, alvo de pulverização catódica de cerâmica de nitreto, alvo de cerâmica de óxido, alvo de pulverização catódica de cerâmica de seleneto, pulverização catódica de cerâmica de silicieto alvo, alvo de pulverização catódica de cerâmica de sulfeto, alvo de pulverização catódica de cerâmica de telureto, outros alvos de cerâmica, alvo de cerâmica de óxido de silício dopado com cromo (CR SiO), alvo de fosfeto de índio (INP), alvo de arsenieto de chumbo (pbas), alvo de arsenieto de índio (InAs).
A pulverização catódica por magnetron é geralmente dividida em dois tipos: pulverização catódica DC e pulverização catódica RF. O princípio do equipamento de pulverização catódica DC é simples e sua taxa também é rápida ao pulverizar metal. A pulverização catódica de RF é amplamente utilizada. Além de pulverizar dados condutivos, também pode pulverizar dados não condutores. O alvo de pulverização catódica também pode ser usado para pulverização catódica reativa para preparar dados compostos, como óxidos, nitretos e carbonetos. Se a frequência de RF aumentar, ocorrerá pulverização catódica de plasma de micro-ondas. Atualmente, a pulverização catódica de plasma de micro-ondas por ressonância ciclotron eletrônica (ECR) é comumente usada.
Horário da postagem: 26 de maio de 2022