Os edifícios modernos começaram a utilizar grandes áreas de iluminação em vidro. Este aspecto nos proporciona ambientes mais claros e horizontes mais amplos. Por outro lado, o calor transmitido através do vidro é muito superior ao das paredes circundantes e o consumo de energia de todo o edifício aumenta significativamente..
Em comparação com a taxa de utilização de mais de 90% do vidro de baixa radiação nos países desenvolvidos, a taxa de penetração do vidro de baixa emissividade na China é de apenas cerca de 12%, e a China ainda tem muito espaço para desenvolvimento.No entanto, em comparação com vidro comum e vidro low-E on-line, o custo de produção do vidro LowE off-line é alto, o que restringe a aplicação até um certo grau. As empresas nacionais de processamento de vidro têm a obrigação de reduzir continuamente o custo de produção de produtos de revestimento, acelerar a implementação, economizar energia, melhorar o meio ambiente, e alcançar o desenvolvimento social sustentável.
1、Influência do formato do alvo
Grandes áreas de revestimento geralmente usam material alvo de acordo com o formato, incluindo orientação planar e orientação rotacional. Os alvos planares gerais incluem alvo de cobre, alvo de prata,NAlvo i-Cr e alvo de grafite. O alvo giratório geral tem alvo de alumínio de zinco, alvo de estanho de zinco, alvo de alumínio de silício, alvo de estanho, alvo de óxido de titânio, alvo de alumínio de óxido de zinco e assim por diante. O formato do alvo afetará a estabilidade e as propriedades do filme do revestimento de pulverização catódica de magnetron e a utilização a taxa da meta é muito alta. Depois de alterar o planejamento da forma do alvo, a qualidade e o poder de produção do revestimento podem ser melhorados e o custo pode ser economizado.
2、Influência da densidade relativa e depuração do alvo
A densidade relativa no alvo é a razão entre a densidade prática e a densidade teórica do alvo, a densidade teórica do alvo de componente único é a densidade do cristal, e a densidade teórica da liga ou mistura alvo é calculada de acordo com o teórico densidade de cada elemento e a proporção na liga ou mistura.. A disposição do alvo do pulverizador térmico é porosa, altamente oxigenada (mesmo com pulverização a vácuo, a produção de óxidos e compostos nitrosos no alvo da liga é inevitável), e a aparência é cinza e sem brilho metálico. Impurezas adsorvidas e umidade são as principais fontes de poluição.
3、Influência do tamanho da partícula alvo e direção do cristal
No mesmo peso do alvo, o alvo com tamanho de partícula pequeno é mais rápido que o alvo com tamanho de partícula grande. Isto ocorre principalmente porque o limite da partícula no processo de respingo é fácil de ser invadido; quanto maior o limite da partícula, mais rápida será a formação do filme. O tamanho da partícula não afeta apenas a velocidade de pulverização catódica, mas também afeta a qualidade da formação do filme. Por exemplo, no processo de produção de produtos EowE, o NCr atua como camada de manutenção da camada reflexiva infravermelha Ag, e sua qualidade tem grande influência sobre produtos de revestimento. Devido ao grande coeficiente de extinção da camada de filme de NiCr, ela é geralmente fina (cerca de 3 nm). Se o tamanho da partícula for muito grande, o tempo de pulverização catódica torna-se mais curto, a densificação da camada de filme piora, o efeito de manutenção da camada Ag diminui e é provocada a descamação por oxidação dos produtos de revestimento.
conclusão
O planejamento da forma do material alvo afeta principalmente a taxa de utilização do material alvo. O planejamento de tamanho razoável pode melhorar a taxa de utilização do material alvo e economizar custos. Quanto menor o tamanho da partícula, mais rápida será a velocidade do revestimento, melhor será a uniformidade. Quanto maior a pureza e a densidade, menor a porosidade, melhor a qualidade do filme e menor a probabilidade de redução da escória de descarga.
Horário da postagem: 27 de abril de 2022