Princípio do revestimento a vácuo

O revestimento a vácuo refere-se ao aquecimento e evaporação da fonte de evaporação no vácuo ou pulverização catódica com bombardeio iônico acelerado e sua deposição na superfície do substrato para formar um filme de camada única ou multicamadas. Qual é o princípio do revestimento a vácuo? A seguir, o editor do RSM nos apresentará isso.

　　1. Revestimento de evaporação a vácuo

O revestimento por evaporação exige que a distância entre as moléculas ou átomos de vapor da fonte de evaporação e o substrato a ser revestido seja menor que o caminho livre médio das moléculas de gás residual na sala de revestimento, de modo a garantir que as moléculas de vapor do a evaporação pode atingir a superfície do substrato sem colisão. Certifique-se de que o filme esteja puro e firme e que a evaporação não oxide.

　　2. Revestimento por pulverização catódica a vácuo

No vácuo, quando os íons acelerados colidem com o sólido, por um lado, o cristal é danificado, por outro lado, eles colidem com os átomos que compõem o cristal e, finalmente, com os átomos ou moléculas da superfície do sólido estalar para fora. O material pulverizado é revestido no substrato para formar uma película fina, que é chamada de revestimento por pulverização catódica a vácuo. Existem muitos métodos de pulverização catódica, entre os quais a pulverização catódica com diodo é o mais antigo. De acordo com diferentes alvos catódicos, pode ser dividido em corrente contínua (DC) e alta frequência (RF). O número de átomos pulverizados ao impactar a superfície do alvo com um íon é chamado de taxa de pulverização catódica. Com alta taxa de pulverização catódica, a velocidade de formação do filme é rápida. A taxa de pulverização catódica está relacionada à energia e ao tipo de íons e ao tipo de material alvo. De modo geral, a taxa de pulverização catódica aumenta com o aumento da energia iônica humana, e a taxa de pulverização catódica de metais preciosos é maior.