Os alvos de molibdênio pulverizados têm sido amplamente utilizados na indústria eletrônica, células solares, revestimento de vidro e outros campos devido às suas vantagens inerentes. Com o rápido desenvolvimento da tecnologia moderna em miniaturização, integração, digitalização e inteligência, a utilização de alvos de molibdénio continuará a aumentar e os requisitos de qualidade para os mesmos também se tornarão cada vez mais elevados. Portanto, precisamos encontrar maneiras de melhorar a taxa de utilização das metas de molibdênio. Agora, o editor do RSM apresentará vários métodos para melhorar a taxa de utilização de alvos de molibdênio para pulverização catódica para todos
1. Adicione bobina eletromagnética no verso
A fim de melhorar a taxa de utilização do alvo de molibdênio pulverizado, uma bobina eletromagnética pode ser adicionada no lado reverso do alvo de molibdênio de pulverização catódica planar Magnetron, e o campo magnético na superfície do alvo de molibdênio pode ser aumentado aumentando a corrente de a bobina eletromagnética, de modo a melhorar a taxa de utilização do alvo de molibdênio.
2. Selecione o material alvo rotativo tubular
Em comparação com alvos planos, a escolha de uma estrutura de alvo rotativa tubular destaca suas vantagens substantivas. Geralmente, a taxa de utilização de alvos planos é de apenas 30% a 50%, enquanto a taxa de utilização de alvos rotativos tubulares pode atingir mais de 80%. Além disso, ao usar o alvo de pulverização catódica Magnetron de tubo oco giratório, uma vez que o alvo pode girar em torno do conjunto magnético de barra fixa o tempo todo, não haverá redeposição em sua superfície, de modo que a vida útil do alvo giratório é geralmente mais de 5 vezes mais longa do que o alvo do avião.
3. Substitua por novo equipamento de pulverização catódica
A chave para melhorar a taxa de utilização dos materiais alvo é completar a substituição do equipamento de pulverização catódica. Durante o processo de pulverização catódica do material alvo de pulverização catódica de molibdênio, cerca de um sexto dos átomos de pulverização catódica se depositará na parede ou suporte da câmara de vácuo após serem atingidos por íons de hidrogênio, aumentando o custo de limpeza do equipamento de vácuo e o tempo de inatividade. Portanto, a substituição de novos equipamentos de pulverização catódica também pode ajudar a melhorar a taxa de utilização dos alvos de molibdênio de pulverização catódica.
Horário da postagem: 24 de maio de 2023