په بیلابیلو مسلکونو کې د هدف موادو پراخه کارول د هدف موادو غوښتنه لوړه او لوړه کوي. لاندې موږ به په لنډه توګه معرفي کول ته د هدف لومړنۍ کاري اړتیاوې څه دي، hoping ستاسو سره مرسته کول.
پاکوالی: پاکوالی د هدف یو له لومړنیو فعالیتونو شاخصونو څخه دی، ځکه چې د هدف پاکوالی د فلم په فعالیت باندې خورا لوی تاثیر لري. مګر په عمل کې، د هدف موادو پاکوالی یو شان ندی. د مثال په توګه، د مایکرو الیکټرونیک مسلک د چټکې ودې سره، د سیلیکون ویفر اندازه له 6 "، 8" څخه تر 12" پورې وده کړې، او د تار عرضه له 0.5um څخه 0.25um، 0.18um او حتی 0.13um ته راټیټه شوې ده. یوځل چې د هدف خالص 99.995٪ کولی شي د 0.35UMIC تخنیکي اړتیاوې پوره کړي. د 0.18um لین چمتو کول د هدف موادو 99.999٪ یا حتی 99.9999٪ پاکوالي ته اړتیا لري.
کثافت: د دې لپاره چې په نښه شوي جامد کې د پورسیت کمولو او د سپټرینګ فلم فعالیت ښه کولو لپاره، هدف معمولا لوړ کثافت ته اړتیا لري. د هدف کثافت نه یوازې د تودوخې کچه اغیزه کوي بلکه د فلمونو بریښنایی او نظری ملکیتونه هم اغیزه کوي. هرڅومره چې د هدف کثافت لوړ وي ، د فلم فعالیت ښه وي. سربیره پردې ، د هدف لرونکي موادو کثافت او ځواک ډیر شوی ترڅو دا د تودوخې پرمهال د تودوخې فشار سره د مقابلې وړتیا ښه کړي. کثافت هم د هدف لرونکي موادو یو مهم فعال شاخص دی.
د ناپاکۍ محتويات: په نښه شوي جامد او اکسیجن کې ناپاکۍ او په مسیرونو کې د اوبو بخار د راټول شوي فلمونو د ککړتیا لومړنۍ سرچینې دي. د مختلف هدفونو لپاره مختلف هدف لرونکي مواد د مختلف ناپاکۍ مینځپانګې لپاره مختلف اړتیاوې لري. د مثال په توګه، د سیمیکمډکټر صنعت کې کارول شوي خالص المونیم او المونیم الیاژ هدفونه د الکلي فلزي محتوا او راډیو اکټیو عنصر مینځپانګې لپاره ځانګړي اړتیاوې لري.
د پوسټ وخت: جون-06-2022