د لوړ پاکوالي Yttrium هدف - د PVD کوټینګ یو مهم غړی

د یوټریم سپټرینګ هدف څه شی دی؟
د Yttrium هدف په عمده توګه د فلزي عنصر yttrium sputtering هدف لخوا تولید کیږي، ځکه چې د yttrium عنصر (Y) یو له نادر ځمکې فلزي عناصرو څخه دی، نو د یوټریم هدف د نادر ځمکې هدف په نوم هم پیژندل کیږي.
د Yttrium هدفونه په عمده توګه د سپټرینګ ډیپوزیشن ټیکنالوژۍ کې کارول کیږي. د سپټرینګ ډیپوزیشن ټیکنالوژي یو له فزیکي بخار ډیپوزیشن (PVD) ټیکنالوژیو څخه دی ، او د بریښنایی پتلی فلم موادو چمتو کولو لپاره یو له اصلي ټیکنالوژیو څخه دی. د هدف په سطحه د لوړ انرژی ذرات (لکه ایون یا الکترون بیم) په بمبارولو سره، هدف اتومونه یا مالیکولونه توییږي او په بل سبسټریټ کې زیرمه کیږي ترڅو مطلوب فلم یا پوښ جوړ کړي.
د yttrium هدف په ساده ډول د مطلوب فلم یا کوټینګ سرچینه مواد دي چې د PVD ټیکنالوژۍ لخوا چمتو شوي.

څه ديدد yttrium sputtering هدف لپاره کارول کیږي؟

د Yttrium اهداف په ډیری برخو کې د غوښتنلیکونو پراخه لړۍ لري، لاندې د غوښتنلیک اصلي ساحې دي:

1. د سیمیکمډکټر مواد: د سیمیکمډکټر صنعت کې، د یټریم هدفونه د سیمیکمډکټر موادو یا بریښنایی اجزاو لکه ټرانزیسټرونو ، مدغم سرکیټونو او نورو کې د ځانګړو پرتونو تولید لپاره کارول کیږي.
2. آپټیکل کوټینګ: د آپټیکس په ساحه کې ، د یوټریم هدفونه د لوړ انعکاس شاخص او ټیټ توزیع نرخ سره د نظری کوټینګونو چمتو کولو لپاره کارول کیدی شي ، کوم چې د نظری وسیلو لکه لیزرونو او نظری فلټرونو په تولید کې مهم رول لوبوي.
3. د پتلی فلم زیرمه کول: د یټریم هدف د پتلی فلم زیرمه کولو ټیکنالوژۍ کې مهم موقعیت لري ، او د دې لوړ پاکوالی ، ښه ثبات او ځانګړي فزیکي او کیمیاوي ملکیتونه دا د مختلف پتلي فلم موادو چمتو کولو لپاره غوره انتخاب ګرځوي. دا پتلی فلم مواد په نظری، بریښنایی، مقناطیسی او نورو برخو کې د غوښتنلیکونو پراخه لړۍ لري.
4. طبي ساحه: د yttrium هدفونه د وړانګو درملو کې مهم غوښتنلیکونه لري، لکه د ایکس رې او ګاما وړانګو سرچینه، تشخیصي امیجنگ (لکه د CT سکین)، او د وړانګو درملنه. برسېره پر دې، د yttrium ځانګړي آاسوټوپونه (لکه Y-90) هم د ځانګړو سرطانونو د هدفي درملنې لپاره په رادیو درملتونونو کې کارول کیدی شي.
5. د اټومي انرژۍ صنعت: په اتومي ریکټورونو کې، یوټریم هدفونه د لیور موادو په توګه کارول کیږي ترڅو د اټومي تعاملاتو سرعت او ثبات کنټرول کړي د دوی د غوره نیوټرون جذب ظرفیت له امله.

یادونه: څرنګه چې د غوښتنلیک په مختلفو برخو کې د یوټریم اهدافو د فعالیت اړتیاوې ممکن توپیر ولري، مناسب هدف باید په ځانګړي غوښتنلیک کې د حقیقي وضعیت سره سم وټاکل شي. (لکه ځانګړی پاکوالی، د جوړښت تناسب، اندازه، شکل، او نور، د ځانګړو اړتیاو سره سم دودیز شوی.)

د ytrium sputtering اهدافو تولید ټیکنالوژي؟

1. د یټریم پوډر چمتو کړئ 2. HIP، د فشار کولو مولډینګ 3. د لوړې تودوخې سینټرینګ 4. وروسته پروسس کول (کټل، پالش کول، او نور) 5. پاکول او بسته کول

یادونه: د پورتنیو اساسي ګامونو سربیره، د ځانګړي چمتو کولو میتود او غوښتنلیک اړتیاو سره سم، د یوټریم سپټرینګ هدفونه کیدای شي نور مرحلې او ټیکنالوژي هم ولري، لکه د سپټر کولو طریقه، د ویکیوم خټکي میتود، او داسې نور. د هدف موادو فعالیت او جوړښت.

څنګه کولای شو چی د لوړ کیفیت sputtering هدف غوره کړي؟

لاندې د لوړ کیفیت سپټرینګ اهدافو غوره کولو لپاره 7 مهم عوامل لیست کوي:

1. سلامد پاکوالي

د لوړ پاکوالي هدفونه غوره مادي ملکیتونه او ډیر باثباته فزیکي او کیمیاوي ملکیتونه لري، کوم چې د سپټرینګ کوټینګ کیفیت او فعالیت ډاډمن کولو لپاره اړین دی. د پاکوالي ځانګړي اړتیاوې باید د غوښتنلیک سناریو سره سم وټاکل شي ، د غوښتنلیک ځینې ساده سناریوګانې د خورا لوړ پاکوالي تعقیب ته اړتیا نلري ، ترڅو غیر ضروري لګښتونه زیات نشي. هغه څه چې تاسو سره مناسب دي غوره دي.

2.ثبات

د هدف ثبات مساوي مهم دی، کوم چې کولی شي د تودوخې په وخت کې د موادو له لاسه ورکولو یا د فعالیت د بدلون مخه ونیسي. له همدې امله، په انتخاب کې، یو ځانګړی درملنه غوره کړئ یا د محصول ښه ثبات ولرئ.

3. اندازه او شکل

د سپټرینګ هدف اندازه او شکل باید د کوټینګ تجهیزاتو ځانګړو اړتیاو سره سم وټاکل شي ترڅو د سپټرینګ مختلف پروسو او تولید اړتیاو سره تطابق شي. ډاډ ترلاسه کول چې هدف د تجهیزاتو سره مطابقت لري د تودوخې موثریت ډیروي او ضایع کموي.

4.کثافت

کثافت یو له مهمو شاخصونو څخه دی چې د هدف موادو کیفیت اندازه کوي. د لوړ کثافت هدف لرونکي توکي کولی شي د غوره تودوخې اغیز تضمین کړي. کله چې غوره کړئ، تاسو باید د هدف کثافت ډیټا ته پام وکړئ، او هڅه وکړئ د لوړ کثافت سره محصولات غوره کړئ.

5.د پروسس دقت

د هدف د پروسس دقت هم یو له هغو فکتورونو څخه دی چې باید په پام کې ونیول شي. عموما، د هدف پروسس کولو دقت باید د ± 0.1mm دننه وي ترڅو د سپټرینګ پروسې ثبات او د کوټینګ کیفیت یوشانوالی ډاډمن کړي.

6.Special اړتیاوې

د ځینې ځانګړي غوښتنلیک سناریوګانو لپاره ، لکه د لوړ ر lightا لیږد ته اړتیا ، د هدف ټیټ جذب (نظری کوټینګ) یا لوړ چالکتیا ، د هدف لوړ ثبات (برقی ساحه) ، باید د اړوند هدف ځانګړي اړتیاو سره سم وټاکل شي. ډول

7. یو مسلکي جوړونکی یا عرضه کونکی وټاکئ.