موږ ټول پوهیږو چې سپک کول د فلم موادو چمتو کولو لپاره یو له اصلي ټیکنالوژیو څخه دی. دا د آئن سرچینې لخوا تولید شوي ایونونه کاروي ترڅو په خلا کې د راټولیدو ګړندی کړي ترڅو د لوړ سرعت آیون بیم رامینځته کړي ، جامد سطح بمباري کړي ، او آئنونه په جامد سطح کې د اتومونو سره متحرک انرژي تبادله کوي ، ترڅو اټومونه په جامد سطح باندې وتړي. سطحه جامد پریږدي او د فرعي سطحې په سطحه جمع کوي. بمبار شوی جامد د سپټټرینګ په واسطه د فلم د زیرمه کولو لپاره خام مواد دي، چې د سپټرینګ هدف په نوم یادیږي.
د سپټټر شوي فلم موادو مختلف ډولونه په پراخه کچه د سیمی کنډکټر مدغم سرکیټونو ، ثبت کولو میډیا ، پلانر نندارتون ، وسیلې او د سطحې کوټ کولو او داسې نورو کې کارول شوي.
د سپټټرینګ هدفونه په عمده ډول په بریښنایی او معلوماتو صنعتونو کې کارول کیږي ، لکه مدغم شوي سرکیټونه ، د معلوماتو ذخیره کول ، د مایع کرسټال نندارې ، لیزر یادونه ، د بریښنایی کنټرول تجهیزات ، او داسې نور؛ دا د شیشې کوټ کولو په برخه کې هم کارول کیدی شي؛ دا د اغوستلو په وړاندې مقاومت لرونکي موادو، د تودوخې لوړ مقاومت، د لوړ پای آرائشی محصولاتو او نورو صنعتونو کې هم کارول کیدی شي.
د هدفونو د ویشلو ډیری ډولونه شتون لري، او د اهدافو طبقه بندي کولو لپاره مختلف میتودونه شتون لري:
د جوړښت له مخې، دا په فلزي هدف، د الیاژ هدف او د سیرامیک مرکب هدف ویشل کیدی شي.
د شکل له مخې، دا په اوږد هدف، مربع هدف او ګردي هدف ویشل کیدی شي.
دا د غوښتنلیک ساحې سره سم په مایکرو الیکترونیک هدف ، مقناطیسي ریکارډ هدف ، آپټیکل ډیسک هدف ، قیمتي فلزي هدف ، د فلم مقاومت هدف ، conductive فلم هدف ، د سطحې تعدیل هدف ، ماسک هدف ، آرائشی پرت هدف ، الیکټروډ هدف او نورو هدفونو ویشل کیدی شي.
د مختلف غوښتنلیکونو له مخې ، دا د سیمیکمډکټر اړوند سیرامیک اهدافو ویشل کیدی شي ، د مینځني سیرامیک اهدافو ثبت کول ، د سیرامیک اهدافو ښودل ، د سوپر کنډکټینګ سیرامیک اهدافو او لوی مقناطیسي سیرامیک اهدافو.
د پوسټ وخت: جولای 29-2022