د CrAlSi الماس سپټرینګ هدف د لوړ پاکوالي پتلی فلم Pvd کوټینګ دودیز جوړ شوی
کروم المونیم سیلیکون
د کرونیم المونیم سیلیکون سپټرینګ هدف توضیحات
د کرونیم المونیم سیلیکون سپټرینګ هدفونو جوړول لاندې مرحلې لري:
1. د سیلیکون، المونیم او کرونیم د ویکیوم خټکی د ګام الیاژ ترلاسه کولو لپاره.
2. د پوډر پیس کول او مخلوط کول.
3.Hot isostatic فشار درملنه د کرومیم المونیم سیلیکون الیاژ sputtering هدف ترلاسه کولو لپاره.
د کرونیم المونیم سیلیکون سپټرینګ هدفونه په پراخه کچه د پرې کولو وسیلو او مولډونو کې کارول کیږي ، د دې د پوښ مقاومت او د لوړې تودوخې اکسیډریشن مقاومت له امله د فلم فعالیت ښه کولو لپاره.
د CrAlSi اهدافو د PVD پروسې په جریان کې به یو بې کاره Si3N4 مرحله رامینځته شي. د Amorphous Si3N4 مرحلې د شاملولو له امله، د دانې د اندازې وده محدوده کیدی شي او د لوړې تودوخې اکسیډریشن مقاومت ملکیت ته وده ورکړي.
د کرونیم المونیم سیلیکون سپټرینګ هدف بسته بندي
زموږ د کرونیم المونیم سیلیکون سپټر هدف په واضح ډول ټګ شوی او په بهر کې لیبل شوی ترڅو د اغیزمن پیژندنې او کیفیت کنټرول ډاډمن کړي. د هر ډول زیان څخه مخنیوي لپاره خورا پاملرنه کیږي چې ممکن د ذخیره کولو یا ترانسپورت پرمهال رامینځته شي
اړیکه ترلاسه کړئ
د RSM د کرونیم المونیم سیلیکون سپټرینګ هدفونه د خورا لوړ پاکوالي او یونیفورم څخه دي. دوی په مختلفو بڼو، پاکوالي، اندازو او قیمتونو کې شتون لري. موږ د غوره فعالیت سره د لوړ پاکوالي پتلي فلم کوټینګ موادو تولید کې تخصص لرو او همدارنګه د مولډ کوټینګ ، سینګار ، د موټرو پرزو ، ټیټ ای شیشې ، نیمه کنډکټر مدغم سرکیټ ، پتلی فلم کې د کارولو لپاره ترټولو ممکنه کثافت او ترټولو کوچنی ممکن اوسط دانې اندازې. مقاومت، ګرافیک ښودنه، فضایي، مقناطیسي ثبت کول، ټچ سکرین، پتلی فلم سولر بیټرۍ او نور فزیکي بخار جمع کول (PVD) غوښتنلیکونه. مهرباني وکړئ موږ ته د سپکو اهدافو او نورو زیرمو موادو په اړه د اوسني نرخ لپاره پوښتنې راولیږئ چې لیست شوي ندي.
