Wielu użytkowników musiało słyszeć o produkcie w postaci tarczy napylającej, ale zasada tarczy napylającej powinna być stosunkowo nieznana. Teraz redaktorBogaty materiał specjalny (RSM) podziela zasady rozpylania magnetronowego celu rozpylania.
Pomiędzy napyloną elektrodą docelową (katodą) a anodą dodaje się ortogonalne pole magnetyczne i pole elektryczne, wymagany gaz obojętny (zwykle gaz Ar) jest wprowadzany do komory wysokiej próżni, magnes trwały tworzy pole magnetyczne o mocy 250 ~ 350 Gaussów powierzchnię danych docelowych, a ortogonalne pole elektromagnetyczne tworzy się z polem elektrycznym wysokiego napięcia.
Pod wpływem pola elektrycznego gaz Ar ulega jonizacji na jony dodatnie i elektrony. Do obiektu docelowego dodawane jest pewne ujemne wysokie napięcie. Wpływ pola magnetycznego na elektrony emitowane z bieguna docelowego oraz prawdopodobieństwo jonizacji gazu roboczego wzrasta, tworząc w pobliżu katody plazmę o dużej gęstości. Pod wpływem siły Lorentza jony Ar przyspieszają do powierzchni celu i bombardują ją z bardzo dużą prędkością. Napylone atomy na celu postępują zgodnie z zasadą konwersji pędu i odlatują od powierzchni celu na podłoże z dużą energią kinetyczną do deponowania filmów.
Rozpylanie magnetronowe ogólnie dzieli się na dwa typy: rozpylanie dopływowe i rozpylanie RF. Zasada działania sprzętu do napylania dopływowego jest prosta, a jego szybkość jest również duża w przypadku napylania metalu. Rozpylanie RF jest szeroko stosowane. Oprócz napylania materiałów przewodzących może również napylać materiały nieprzewodzące. Jednocześnie prowadzi również rozpylanie reaktywne w celu przygotowania materiałów z tlenków, azotków, węglików i innych związków. Jeśli częstotliwość RF zostanie zwiększona, stanie się to mikrofalowym rozpylaniem plazmy. Obecnie powszechnie stosuje się mikrofalowe rozpylanie plazmowe za pomocą elektronowego rezonansu cyklotronowego (ECR).
Czas publikacji: 31 maja 2022 r