ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣ ଏବଂ ସ୍ପଟର୍ଙ୍ଗ ଆବରଣ ମଧ୍ୟରେ ପାର୍ଥକ୍ୟ |

ଯେହେତୁ ଆମେ ସମସ୍ତେ ଜାଣୁ, ଭାକ୍ୟୁମ୍ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଏବଂ ଆୟନ ସ୍ପୁଟର୍ଙ୍ଗ ସାଧାରଣତ v ଭାକ୍ୟୁମ୍ ଆବରଣରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ | ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣ ଏବଂ ସ୍ପୁଟର୍ ଆବରଣ ମଧ୍ୟରେ ପାର୍ଥକ୍ୟ କ’ଣ? ପରବର୍ତ୍ତୀ ସମୟରେ, RSM ର ବ technical ଷୟିକ ବିଶେଷଜ୍ଞମାନେ ଆମ ସହିତ ଅଂଶୀଦାର କରିବେ |

ଭ୍ୟାକ୍ୟୁମ୍ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣ ହେଉଛି ଏକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ତାପମାତ୍ରାରେ ବାଷ୍ପୀଭୂତ ହେବାକୁ ଥିବା ପଦାର୍ଥକୁ ପ୍ରତିରୋଧ ଗରମ କିମ୍ବା ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ବିମ୍ ଏବଂ 10-2Pa ରୁ କମ୍ ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନ ସହିତ ଏକ ପରିବେଶରେ ଲେଜର ବୋମା ବିସ୍ଫୋରଣ ଦ୍ heat ାରା ଗରମ କରିବା, ଯାହା ଦ୍ mol ାରା ଅଣୁଗୁଡ଼ିକର ତାପଜ କମ୍ପନ ଶକ୍ତି କିମ୍ବା ପଦାର୍ଥରେ ଥିବା ପରମାଣୁଗୁଡ଼ିକ ଭୂପୃଷ୍ଠର ବନ୍ଧନ ଶକ୍ତି ଅତିକ୍ରମ କରେ, ଯାହା ଦ୍ a ାରା ବହୁ ସଂଖ୍ୟକ ଅଣୁ ବା ପରମାଣୁ ବାଷ୍ପୀଭୂତ ହୁଏ କିମ୍ବା ସବଲିମେଟ୍ ହୁଏ ଏବଂ ଏକ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଗଠନ ପାଇଁ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଉପରେ ସିଧାସଳଖ ଅବତରଣ କରେ | ଆଇନ୍ ସ୍ପୁଟରିଂ ଆବରଣ ଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ଫିଲ୍ଡର କ୍ରିୟାରେ ଗ୍ୟାସ୍ ଡିସଚାର୍ଜ ଦ୍ ated ାରା ଉତ୍ପାଦିତ ସକରାତ୍ମକ ଆୟନର ଉଚ୍ଚ-ଗତିର ଗତିକୁ କ୍ୟାଥୋଡ୍ ଭାବରେ ବିସ୍ଫୋରଣ କରିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହାର କରିଥାଏ, ଯାହା ଦ୍ the ାରା ଟାର୍ଗେଟରେ ଥିବା ପରମାଣୁ କିମ୍ବା ଅଣୁଗୁଡ଼ିକ ପଳାୟନ ହୋଇଥିବା କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷେତ୍ରର ପୃଷ୍ଠରେ ପରିଣତ ହୁଏ | ଆବଶ୍ୟକ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର |

ଭାକ୍ୟୁମ୍ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣର ସବୁଠାରୁ ସାଧାରଣ ବ୍ୟବହୃତ ପଦ୍ଧତି ହେଉଛି ପ୍ରତିରୋଧ ଗରମ, ଯାହାର ସରଳ ଗଠନ, ସ୍ୱଳ୍ପ ମୂଲ୍ୟ ଏବଂ ସୁବିଧାଜନକ କାର୍ଯ୍ୟର ସୁବିଧା ଅଛି | ଅସୁବିଧା ହେଉଛି ଏହା ଚିତ୍ତାକର୍ଷକ ଧାତୁ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ପ୍ରତିରୋଧକ ଡାଇଲେକ୍ଟ୍ରିକ୍ ସାମଗ୍ରୀ ପାଇଁ ଉପଯୁକ୍ତ ନୁହେଁ | ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନ ବିମ୍ ଗରମ ଏବଂ ଲେଜର ଗରମ ପ୍ରତିରୋଧ ଉତ୍ତାପର ଅଭାବକୁ ଦୂର କରିପାରିବ | ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ବିମ୍ ଉତ୍ତାପରେ, ଫୋକସ୍ ହୋଇଥିବା ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ବିମ୍ ବିସ୍ଫୋରଣ ହୋଇଥିବା ପଦାର୍ଥକୁ ସିଧାସଳଖ ଗରମ କରିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ, ଏବଂ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ବିମର ଗତିଜ ଶକ୍ତି ଉତ୍ତାପ ଶକ୍ତି ହୋଇଯାଏ, ଯାହା ପଦାର୍ଥକୁ ବାଷ୍ପୀଭୂତ କରିଥାଏ | ଲେଜର ଉତ୍ତାପ ଉତ୍ତାପ ଉତ୍ସ ଭାବରେ ଉଚ୍ଚ-ଶକ୍ତି ଲେଜରକୁ ବ୍ୟବହାର କରେ, କିନ୍ତୁ ଉଚ୍ଚ-ଶକ୍ତି ଲେଜରର ଅଧିକ ମୂଲ୍ୟ ହେତୁ ଏହାକୁ ବର୍ତ୍ତମାନ କିଛି ଗବେଷଣା ଲାବୋରେଟୋରୀରେ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ |

ସ୍ପୁଟରିଂ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ଭାକ୍ୟୁମ୍ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଟେକ୍ନୋଲୋଜିଠାରୁ ଭିନ୍ନ | “ସ୍ପୁଟରିଙ୍ଗ” ଘଟଣାକୁ ବୁ refers ାଏ ଯାହା ଚାର୍ଜ ହୋଇଥିବା କଣିକାଗୁଡ଼ିକ କଠିନ ପୃଷ୍ଠକୁ (ଟାର୍ଗେଟ୍) ବିସ୍ଫୋରଣ କରେ ଏବଂ ଭୂପୃଷ୍ଠରୁ କଠିନ ପରମାଣୁ ବା ଅଣୁଗୁଡ଼ିକ ବାହାର କରିଦିଏ | ନିର୍ଗତ ହେଉଥିବା କଣିକାଗୁଡ଼ିକ ମଧ୍ୟରୁ ଅଧିକାଂଶ ପରମାଣୁ ଅବସ୍ଥାରେ ଥାଏ, ଯାହାକୁ ପ୍ରାୟତ sp ସ୍ପୁଟର୍ ପରମାଣୁ କୁହାଯାଏ | ଟାର୍ଗେଟକୁ ବୋମା ଦେବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ସ୍ପଟର୍ କଣିକା ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍, ଆୟନ କିମ୍ବା ନିରପେକ୍ଷ କଣିକା ହୋଇପାରେ | ଆବଶ୍ୟକ ଗତିଜ ଶକ୍ତି ପାଇବା ପାଇଁ ବ electric ଦ୍ୟୁତିକ କ୍ଷେତ୍ର ଅଧୀନରେ ଆୟନଗୁଡିକ ତ୍ୱରାନ୍ୱିତ ହେବା ସହଜ, ସେମାନଙ୍କ ମଧ୍ୟରୁ ଅଧିକାଂଶ ଆୟନକୁ ବିସ୍ଫୋରଣ ହୋଇଥିବା କଣିକା ଭାବରେ ବ୍ୟବହାର କରନ୍ତି | ସ୍ପଟରିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଗ୍ଲୋ ଡିସଚାର୍ଜ ଉପରେ ଆଧାରିତ, ଅର୍ଥାତ୍ ସ୍ପୁଟର୍ ଆୟନ ଗ୍ୟାସ୍ ଡିସଚାର୍ଜରୁ ଆସିଥାଏ | ବିଭିନ୍ନ ସ୍ପୁଟର୍ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ବିଭିନ୍ନ ଗ୍ଲୋ ଡିସଚାର୍ଜ ମୋଡ୍ ଗ୍ରହଣ କରେ | ଡିସି ଡାୟୋଡ୍ ସ୍ପୁଟରିଂ ଡିସି ଗ୍ଲୋ ଡିସଚାର୍ଜ ବ୍ୟବହାର କରେ; ଟ୍ରାଇଡ ସ୍ପୁଟରିଙ୍ଗ ହେଉଛି ଗରମ କ୍ୟାଥୋଡ ଦ୍ୱାରା ସମର୍ଥିତ ଏକ ଗ୍ଲୋ ଡିସଚାର୍ଜ; RF sputtering RF ଗ୍ଲୋ ଡିସଚାର୍ଜ ବ୍ୟବହାର କରେ; ଚୁମ୍ବକୀୟ ସ୍ପୁଟରିଙ୍ଗ ହେଉଛି ଏକ ଗ୍ଲୋ ଡିସଚାର୍ଜ ଯାହା ଏକ ବାର୍ଷିକ ଚୁମ୍ବକୀୟ କ୍ଷେତ୍ର ଦ୍ୱାରା ନିୟନ୍ତ୍ରିତ |

ଭାକ୍ୟୁମ୍ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣ ସହିତ ତୁଳନା କଲେ, ସ୍ପୁଟର୍ ଆବରଣର ଅନେକ ସୁବିଧା ଅଛି | ଉଦାହରଣ ସ୍ୱରୂପ, ଯେକ any ଣସି ପଦାର୍ଥ ସ୍ପଟର୍ ହୋଇପାରେ, ବିଶେଷତ high ଉଚ୍ଚ ତରଳିବା ପଏଣ୍ଟ ଏବଂ ନିମ୍ନ ବାଷ୍ପ ଚାପ ସହିତ ଉପାଦାନ ଏବଂ ଯ ounds ଗିକ; ସ୍ପଟର୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଏବଂ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ମଧ୍ୟରେ ଆଡିଶିନ୍ ଭଲ; ଉଚ୍ଚ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଘନତା; ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଘନତାକୁ ନିୟନ୍ତ୍ରଣ କରାଯାଇପାରିବ ଏବଂ ପୁନରାବୃତ୍ତି ଭଲ | ଅସୁବିଧା ହେଉଛି ଯନ୍ତ୍ରଗୁଡ଼ିକ ଜଟିଳ ଏବଂ ଉଚ୍ଚ-ଭୋଲଟେଜ୍ ଉପକରଣ ଆବଶ୍ୟକ କରେ |

ଏହା ସହିତ, ବାଷ୍ପୀକରଣ ପଦ୍ଧତି ଏବଂ ସ୍ପୁଟର୍ ପଦ୍ଧତିର ମିଶ୍ରଣ ହେଉଛି ଆୟନ ପ୍ଲେଟିଂ | ଏହି ପଦ୍ଧତିର ସୁବିଧା ହେଉଛି ଯେ ପ୍ରାପ୍ତ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍, ଉଚ୍ଚ ଜମା ହାର ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଘନତା ସହିତ ଦୃ strong ଆଡିଶିନ୍ ଅଛି |