ଆମର ୱେବସାଇଟ୍ କୁ ସ୍ Welcome ାଗତ!

Sputtering ଲକ୍ଷ୍ୟର ପ୍ରୟୋଗ କ୍ଷେତ୍ର |

ଯେହେତୁ ଆମେ ସମସ୍ତେ ଜାଣୁ, ସ୍ପୁଟର୍ ଟାର୍ଗେଟର ଅନେକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟତା ଅଛି, ଏବଂ ସେମାନଙ୍କର ପ୍ରୟୋଗ କ୍ଷେତ୍ର ମଧ୍ୟ ବହୁତ ପ୍ରଶସ୍ତ | ବିଭିନ୍ନ କ୍ଷେତ୍ରରେ ସାଧାରଣତ used ବ୍ୟବହୃତ ଲକ୍ଷ୍ୟର ପ୍ରକାର ମଧ୍ୟ ଭିନ୍ନ ଅଟେ | ଆଜି, ଆସନ୍ତୁ RSM ର ସମ୍ପାଦକ ସହିତ ସ୍ପୁଟର୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ପ୍ରୟୋଗ କ୍ଷେତ୍ରଗୁଡିକର ବର୍ଗୀକରଣ ବିଷୟରେ ଜାଣିବା!

https://www.rsmtarget.com/

  1 sp ସ୍ପୁଟର୍ ଟାର୍ଗେଟର ସଂଜ୍ଞା |

ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସାମଗ୍ରୀ ପ୍ରସ୍ତୁତ କରିବା ପାଇଁ ସ୍ପୁଟରିଂ ହେଉଛି ଏକ ପ୍ରମୁଖ ପ୍ରଯୁକ୍ତିବିଦ୍ୟା | ଏହା ଆୟନ ଉତ୍ସ ଦ୍ produced ାରା ଉତ୍ପାଦିତ ଆୟନକୁ ତ୍ୱରାନ୍ୱିତ କରିବା ଏବଂ ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନରେ ଏକତ୍ରିତ ହେବା ପାଇଁ ଏକ ଉଚ୍ଚ ଗତିର ଆୟନ ବିମ୍ ଗଠନ କରିବା, କଠିନ ପୃଷ୍ଠକୁ ବିସ୍ଫୋରଣ କରିବା ଏବଂ ଆୟନଗୁଡିକ କଠିନ ପୃଷ୍ଠରେ ଥିବା ପରମାଣୁ ସହିତ ଗତିଜ ଶକ୍ତି ବିନିମୟ କରେ, ଯାହା ଦ୍ the ାରା କଠିନ ଉପରେ ଥିବା ପରମାଣୁଗୁଡିକ | ଭୂପୃଷ୍ଠ କଠିନରୁ ଅଲଗା ହୋଇ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଜମା ହୋଇଥାଏ | ବିସ୍ଫୋରଣ ହୋଇଥିବା କଠିନ ହେଉଛି ସ୍ପୁଟର୍ ଦ୍ୱାରା ଜମା ହୋଇଥିବା ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପ୍ରସ୍ତୁତ ପାଇଁ କଞ୍ଚାମାଲ, ଯାହାକୁ ସ୍ପୁଟର୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ କୁହାଯାଏ |

  2 sp ସ୍ପୁଟର୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ପ୍ରୟୋଗ କ୍ଷେତ୍ରଗୁଡିକର ଶ୍ରେଣୀକରଣ |

 ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର ଲକ୍ଷ୍ୟ |

(1) ସାଧାରଣ ଲକ୍ଷ୍ୟ: ଏହି କ୍ଷେତ୍ରରେ ସାଧାରଣ ଲକ୍ଷ୍ୟଗୁଡିକ ଉଚ୍ଚ ତରଳିବା ପଏଣ୍ଟ ଧାତୁ ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ କରେ ଯେପରିକି ଟାଣ୍ଟାଲମ୍ / ତମ୍ବା / ଟାଇଟାନିୟମ୍ / ଆଲୁମିନିୟମ୍ / ସୁନା / ନିକେଲ୍ |

(୨) ବ୍ୟବହାର: ମୁଖ୍ୟତ integr ଇଣ୍ଟିଗ୍ରେଟେଡ୍ ସର୍କିଟ୍ ପାଇଁ ମୁଖ୍ୟ କଞ୍ଚାମାଲ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |

(3) କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଆବଶ୍ୟକତା: ଶୁଦ୍ଧତା, ଆକାର, ଏକୀକରଣ ଇତ୍ୟାଦି ପାଇଁ ଉଚ୍ଚ ବ technical ଷୟିକ ଆବଶ୍ୟକତା |

  ଫ୍ଲାଟ ପ୍ୟାନେଲ୍ ପ୍ରଦର୍ଶନ ପାଇଁ ଟାର୍ଗେଟ୍ |

(1) ସାଧାରଣ ଲକ୍ଷ୍ୟ: ଏହି କ୍ଷେତ୍ରରେ ସାଧାରଣ ଲକ୍ଷ୍ୟଗୁଡ଼ିକରେ ଆଲୁମିନିୟମ୍ / ତମ୍ବା / ମଲାଇବେଡେନ୍ମ୍ / ନିକେଲ୍ / ନିଓବିୟମ୍ / ସିଲିକନ୍ / କ୍ରୋମିୟମ୍ ଇତ୍ୟାଦି ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |

(୨) ବ୍ୟବହାର: ଏହି ପ୍ରକାରର ଲକ୍ଷ୍ୟ ପ୍ରାୟତ TV ବିଭିନ୍ନ ପ୍ରକାରର ବଡ଼ କ୍ଷେତ୍ର ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଯେପରିକି ଟିଭି ଏବଂ ନୋଟବୁକ୍ ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |

()) କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଆବଶ୍ୟକତା: ଶୁଦ୍ଧତା, ବୃହତ କ୍ଷେତ୍ର, ସମାନତା ଇତ୍ୟାଦି ପାଇଁ ଉଚ୍ଚ ଆବଶ୍ୟକତା |

  3। ସ ar ର କୋଷ ପାଇଁ ଟାର୍ଗେଟ୍ ସାମଗ୍ରୀ |

(1) ସାଧାରଣ ଲକ୍ଷ୍ୟ: ଆଲୁମିନିୟମ୍ / ତମ୍ବା / ମଲାଇବେଡେନମ୍ / କ୍ରୋମିୟମ୍ / ITO / Ta ଏବଂ ସ ar ର କୋଷ ପାଇଁ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ଲକ୍ଷ୍ୟ |

(୨) ବ୍ୟବହାର: ମୁଖ୍ୟତ ““ ୱିଣ୍ଡୋ ସ୍ତର ”, ବ୍ୟାରେଜ୍ ଲେୟାର, ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ଏବଂ କଣ୍ଡକ୍ଟିଭ୍ ଫିଲ୍ମରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |

(3) କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଆବଶ୍ୟକତା: ଉଚ୍ଚ ବ technical ଷୟିକ ଆବଶ୍ୟକତା ଏବଂ ବ୍ୟାପକ ପ୍ରୟୋଗ ପରିସର |

  ସୂଚନା ସଂରକ୍ଷଣ ପାଇଁ ଲକ୍ଷ୍ୟ |

(1) ସାଧାରଣ ଲକ୍ଷ୍ୟଗୁଡିକ: କୋବାଲ୍ଟ / ନିକେଲ୍ / ଫେରୋଲୋଇ / କ୍ରୋମିୟମ୍ / ଟେଲୁରିୟମ୍ / ସେଲେନିୟମ୍ ଏବଂ ସୂଚନା ସଂରକ୍ଷଣ ପାଇଁ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ସାମଗ୍ରୀର ସାଧାରଣ ଲକ୍ଷ୍ୟ |

(୨) ବ୍ୟବହାର: ଏହି ପ୍ରକାରର ଲକ୍ଷ୍ୟ ସାମଗ୍ରୀ ମୁଖ୍ୟତ the ଚୁମ୍ବକୀୟ ମୁଣ୍ଡ, ମଧ୍ୟମ ସ୍ତର ଏବଂ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଡ୍ରାଇଭ୍ ଏବଂ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଡିସ୍କର ତଳ ସ୍ତର ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |

()) କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଆବଶ୍ୟକତା: ଉଚ୍ଚ ସଂରକ୍ଷଣ ଘନତା ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ପ୍ରସାରଣ ଗତି ଆବଶ୍ୟକ |

  5। ସାଧନ ପରିବର୍ତ୍ତନ ପାଇଁ ଲକ୍ଷ୍ୟ |

(1) ସାଧାରଣ ଲକ୍ଷ୍ୟ: ସାଧାରଣ ଲକ୍ଷ୍ୟ ଯେପରିକି ଟାଇଟାନିୟମ୍ / ଜିର୍କୋନିୟମ୍ / କ୍ରୋମିୟମ୍ ଆଲୁମିନିୟମ୍ ମିଶ୍ରଣ ସାଧନ ଦ୍ୱାରା ପରିବର୍ତ୍ତିତ |

(୨) ବ୍ୟବହାର: ସାଧାରଣତ surface ଭୂପୃଷ୍ଠକୁ ଶକ୍ତିଶାଳୀ କରିବା ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |

(3) କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଆବଶ୍ୟକତା: ଉଚ୍ଚ କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଆବଶ୍ୟକତା ଏବଂ ଦୀର୍ଘ ସେବା ଜୀବନ |

  ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ଲକ୍ଷ୍ୟ |

(1) ସାଧାରଣ ଲକ୍ଷ୍ୟ: ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋନିକ୍ ଉପକରଣଗୁଡ଼ିକ ପାଇଁ ସାଧାରଣ ଆଲୁମିନିୟମ୍ ଆଲୟ / ସିଲାଇସିଡ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ |

(୨) ଉଦ୍ଦେଶ୍ୟ: ସାଧାରଣତ thin ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପ୍ରତିରୋଧକ ଏବଂ କ୍ୟାପେସିଟର ପାଇଁ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |

(3) କାର୍ଯ୍ୟଦକ୍ଷତା ଆବଶ୍ୟକତା: ଛୋଟ ଆକାର, ସ୍ଥିରତା, ନିମ୍ନ ପ୍ରତିରୋଧ ତାପମାତ୍ରା କୋଏଫିସିଣ୍ଟେଣ୍ଟ |


ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ଜୁଲାଇ -27-2022 |