Engros WMo Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Produsent og leverandør

Tungsten Molybden Alloy Sputtering Target

WMo Sputtering Target Høy renhet Tynnfilm Pvd-belegg Spesiallaget utvalgt bilde

Kort beskrivelse:

Kategori	Alloy sputtering mål
Kjemisk formel	WMo
Komposisjon	Wolfram molybden
Renhet	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Form	Plater, kolonnemål, buekatoder, spesiallaget
Produksjonsprosess	Vakuumsmelting, PM
Tilgjengelig størrelse	L≤200 mm, B≤200 mm

Send e-post til oss

Produktdetaljer

Produktetiketter

Tungsten Molybden Sputtering Target Beskrivelse

Tungsten molybden sputtering mål er en type legering sputtering mål sammensatt av molybden og wolfram.

Molybden er et kjemisk grunnstoff som stammer fra det greske 'molybdos' som betyr bly. Den ble først nevnt i 1778 og observert av W. Scheele. Isolasjonen ble senere gjennomført og annonsert av J. Hjelm. "Mo" er det kanoniske kjemiske symbolet på molybden. Atomnummeret i det periodiske systemet er 42 med plassering i periode 5 og gruppe 6, som tilhører d-blokken. Den relative atommassen til molybden er 95,94(2) Dalton, tallet i parentesen indikerer usikkerheten.

Wolfram, også kalt wolfram; wolframium, er et kjemisk grunnstoff som stammer fra den svenske 'tung sten' som betyr tung stein (W er wolfram, det gamle navnet på wolframmineralet wolframitt). Den ble først nevnt i 1781 og observert av T. Bergman. Isolasjonen ble senere oppnådd og annonsert av J. og F. Elhuyar. "W" er det kanoniske kjemiske symbolet på wolfram. Atomnummeret i det periodiske systemet er 74 med plassering i periode 6 og gruppe 6, som tilhører d-blokken. Den relative atommassen til wolfram er 183,84(1) Dalton, tallet i parentesen indikerer usikkerheten.

Tungsten Molybden Target Emballasje

Vårt Tungsten molybden sputtermål er tydelig merket og merket eksternt for å sikre effektiv identifikasjon og kvalitetskontroll. Det utvises stor forsiktighet for å unngå skader som kan oppstå under lagring eller transport.

Ta kontakt

RSMs wolframmolybden-forstøvningsmål er av ultrahøy renhet og ensartet. De er tilgjengelige i forskjellige former, renheter, størrelser og priser. Vi spesialiserer oss på å produsere tynnfilmbeleggmaterialer med høy renhet med utmerket ytelse samt høyest mulig tetthet og minste mulige gjennomsnittlige kornstørrelser for bruk i formbelegg、dekorasjon、bildeler、low-E glass、halvleder integrert krets、tynnfilm motstand, grafisk skjerm, romfart, magnetisk opptak, berøringsskjerm, tynnfilm solcellebatteri og annen fysisk damp deponeringsapplikasjoner (PVD). Vennligst send oss en forespørsel for gjeldende priser på sputtermål og andre avsetningsmaterialer som ikke er oppført.

Tidligere: WRe Sputtering Target Høy renhet tynnfilm Pvd-belegg spesiallaget

Neste: WNi Sputtering Target Høy renhet tynnfilm Pvd-belegg spesiallaget