Velkommen til våre nettsider!

CoCrTa Alloy Sputtering Mål Høy renhet tynnfilm Pvd-belegg spesiallaget

Koboltkromtantal

Kort beskrivelse:

Kategori

Alloy sputtering mål

Kjemisk formel

CoCrTa

Komposisjon

Koboltkromtantal

Renhet

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Form

Plater, kolonnemål, buekatoder, spesiallaget

Produksjonsprosess

Vakuumsmelting

Tilgjengelig størrelse

L≤200mm, B≤200mm


Produktdetaljer

Produktetiketter

Kobolt krom Tantal sputtermål er produsert ved støpeprosess og vakuumsmelting. og blir deretter formet til ønsket målform. Den har høy renhet og homogen mikrostruktur. Co-Cr-Ta pleide å være det kritiske materialet for magnetisk opptak på grunn av dets magnetiske egenskaper: høy koersivitet, lav støyegenskap og utmerket firkantethet.

Rich Special Materials spesialiserer seg på produksjon av sputtering Target og kan produsere koboltkrom tantal sputtering materialer i henhold til kundenes spesifikasjoner. For mer informasjon, vennligst kontakt oss.


  • Tidligere:
  • Neste: