Wolfraamsilicide-stukken

Wolfraamsilicide WSi2 wordt gebruikt als materiaal voor elektrische schokken in de micro-elektronica, voor het rangeren van polysiliciumdraden, antioxidatiecoating en coating voor weerstandsdraden. Wolfraamsilicide wordt gebruikt als contactmateriaal in de micro-elektronica, met een soortelijke weerstand van 60-80 μΩcm. Het wordt gevormd bij 1000°C. Het wordt meestal gebruikt als shunt voor polysiliciumlijnen om de geleidbaarheid te vergroten en de signaalsnelheid te verhogen. De wolfraamsilicidelaag kan worden vervaardigd door chemische dampafzetting, zoals dampafzetting. Gebruik monosilaan of dichloorsilaan en wolfraamhexafluoride als grondstofgas. De afgezette film is niet-stoichiometrisch en vereist uitgloeien om te worden omgezet in een meer geleidende stoichiometrische vorm.

Wolfraamsilicide kan de eerdere wolfraamfilm vervangen. Wolfraamsilicide wordt ook gebruikt als barrièrelaag tussen silicium en andere metalen.

Wolfraamsilicide is ook zeer waardevol in micro-elektromechanische systemen, waarbij wolfraamsilicide voornamelijk wordt gebruikt als dunne film voor de vervaardiging van microschakelingen. Voor dit doel kan de wolfraamsilicidefilm plasma-geëtst worden met behulp van bijvoorbeeld silicide.

Rich Special Materials is gespecialiseerd in de vervaardiging van sputterdoelen en zou wolfraamsilicide kunnen producerenstukkenvolgens de specificaties van klanten. Voor meer informatie kunt u contact met ons opnemen.