De halfgeleiderindustrie ziet vaak een term voor doelmaterialen, die kunnen worden onderverdeeld in wafermaterialen en verpakkingsmaterialen. Verpakkingsmaterialen hebben relatief lage technische barrières vergeleken met materialen voor de productie van wafels. Bij het productieproces van wafers zijn hoofdzakelijk zeven soorten halfgeleidermaterialen en chemicaliën betrokken, waaronder één type sputterdoelmateriaal. Dus wat is het doelmateriaal? Waarom is het doelmateriaal zo belangrijk? Vandaag zullen we praten over wat het doelmateriaal is!
Wat is het doelmateriaal?
Simpel gezegd is het doelmateriaal het doelmateriaal dat wordt gebombardeerd door snel geladen deeltjes. Door verschillende doelmaterialen (zoals aluminium, koper, roestvrij staal, titanium, nikkel, enz.) te vervangen, kunnen verschillende filmsystemen (zoals superharde, slijtvaste, corrosiewerende legeringsfilms, enz.) worden verkregen.
Momenteel kunnen (zuivere) sputtertrefplaatmaterialen worden onderverdeeld in:
1) Metalen doelen (puur metaalaluminium, titanium, koper, tantaal, enz.)
2) Legeringsdoelen (nikkel-chroomlegering, nikkel-kobaltlegering, enz.)
3) Doelwitten van keramische verbindingen (oxiden, siliciden, carbiden, sulfiden, enz.).
Volgens verschillende schakelaars kan het worden onderverdeeld in: lang doel, vierkant doel en rond doel.
Volgens verschillende toepassingsgebieden kan het worden onderverdeeld in: halfgeleiderchipdoelen, platte beeldschermdoelen, zonneceldoelen, informatieopslagdoelen, gemodificeerde doelen, elektronische apparaatdoelen en andere doelen.
Door hiernaar te kijken, zou u inzicht moeten hebben gekregen in de sputterdoelen met een hoge zuiverheid, evenals in het aluminium, titanium, koper en tantaal dat in metalen doelen wordt gebruikt. Bij de productie van halfgeleiderwafels is het aluminiumproces gewoonlijk de belangrijkste methode voor het vervaardigen van wafels van 200 mm (8 inch) en kleiner, en de gebruikte doelmaterialen zijn voornamelijk aluminium- en titaniumelementen. Productie van 300 mm (12 inch) wafers, meestal met behulp van geavanceerde koperverbindingstechnologie, voornamelijk met behulp van koper- en tantaaldoelen.
Iedereen moet begrijpen wat het doelmateriaal is. Over het geheel genomen zal er, met het toenemende scala aan chiptoepassingen en de toenemende vraag op de chipmarkt, zeker een toename zijn in de vraag naar de vier reguliere dunne-filmmetaalmaterialen in de industrie, namelijk aluminium, titanium, tantaal en koper. En momenteel is er geen andere oplossing die deze vier dunne-filmmetaalmaterialen kan vervangen.
Posttijd: 06 juli 2023