Onlangs vroegen veel vrienden naar de kenmerken van molybdeen-sputterdoelen. Wat zijn in de elektronische industrie, om de sputterefficiëntie te verbeteren en de kwaliteit van afgezette films te garanderen, de vereisten voor de kenmerken van molybdeensputterdoelen? Nu zullen de technische experts van RSM het ons uitleggen.
1. Zuiverheid
Hoge zuiverheid is een basiskenmerkvereiste voor molybdeensputterdoel. Hoe hoger de zuiverheid van het molybdeendoel, hoe beter de prestaties van gesputterde film. Over het algemeen moet de zuiverheid van het molybdeensputterdoel ten minste 99,95% zijn (massafractie, hetzelfde hieronder). Met de voortdurende verbetering van de afmetingen van het glassubstraat in de LCD-industrie is het echter nodig dat de lengte van de bedrading wordt vergroot en dat de lijnbreedte dunner wordt. Om de uniformiteit van de film en de kwaliteit van de bedrading te garanderen, moet ook de zuiverheid van het molybdeensputterdoel dienovereenkomstig worden verhoogd. Daarom moet, afhankelijk van de grootte van het gesputterde glassubstraat en de gebruiksomgeving, de zuiverheid van het molybdeen-sputterdoel 99,99% - 99,999% of zelfs hoger zijn.
Molybdeen sputterdoel wordt gebruikt als kathodebron bij het sputteren. Onzuiverheden in vaste stoffen, zuurstof en waterdamp in de poriën zijn de belangrijkste bronnen van vervuiling van afgezette films. Bovendien worden in de elektronische industrie de prestaties van het oorspronkelijke apparaat verminderd, omdat alkalimetaalionen (Na, K) gemakkelijk mobiele ionen in de isolatielaag kunnen worden; Elementen zoals uranium (U) en titanium (TI) zullen via röntgenstraling vrijkomen, wat resulteert in een zachte afbraak van apparaten; IJzer- en nikkelionen veroorzaken grensvlaklekkage en toename van zuurstofelementen. Daarom moeten deze onzuiverheidselementen tijdens het bereidingsproces van molybdeen-sputterdoel strikt worden gecontroleerd om hun gehalte in het doelwit te minimaliseren.
2. Korrelgrootte en grootteverdeling
Over het algemeen heeft het sputterdoel van molybdeen een polykristallijne structuur en kan de korrelgrootte variëren van micron tot millimeter. De experimentele resultaten laten zien dat de sputtersnelheid van een fijnkorrelig doel sneller is dan die van een grofkorrelig doel; Voor het doel met een klein verschil in korrelgrootte is de dikteverdeling van de afgezette film ook uniformer.
3. Kristaloriëntatie
Omdat de doelatomen tijdens het sputteren gemakkelijk bij voorkeur in de richting van de dichtstbijzijnde rangschikking van atomen in de hexagonale richting kunnen worden gesputterd, wordt, om de hoogste sputtersnelheid te bereiken, de sputtersnelheid vaak verhoogd door de kristalstructuur van het doel te veranderen. De kristalrichting van het doel heeft ook een grote invloed op de dikte-uniformiteit van de gesputterde film. Daarom is het erg belangrijk om een bepaalde kristalgeoriënteerde doelstructuur te verkrijgen voor het sputterproces van de film.
4. Verdichting
Tijdens het sputtercoatingproces, wanneer het sputterdoel met lage dichtheid wordt gebombardeerd, komt het gas dat zich in de interne poriën van het doel bevindt plotseling vrij, wat resulteert in het spatten van grote doeldeeltjes of deeltjes, of het filmmateriaal wordt gebombardeerd door secundaire elektronen na filmvorming, resulterend in deeltjesspatten. Het uiterlijk van deze deeltjes zal de kwaliteit van de film verminderen. Om de poriën in de vaste stof te verkleinen en de filmprestaties te verbeteren, moet het sputterdoel in het algemeen een hoge dichtheid hebben. Voor het sputterdoel van molybdeen moet de relatieve dichtheid ervan meer dan 98% zijn.
5. Binding van doel en chassis
Over het algemeen moet het molybdeen-sputterdoel vóór het sputteren worden verbonden met het zuurstofvrije koperen (of aluminium en andere materialen) chassis, zodat de thermische geleidbaarheid van het doel en het chassis goed is tijdens het sputterproces. Na het binden moet ultrasone inspectie worden uitgevoerd om ervoor te zorgen dat het niet-bindende oppervlak van de twee minder dan 2% bedraagt, om te voldoen aan de eisen van sputteren met hoog vermogen zonder eraf te vallen.
Posttijd: 19 juli 2022